[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 T~J6(,"  
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场景 6Db1mvSe  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 k(+EY%  
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系统构建块 }dX[u`zQ  
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组件求解器 mRZC98$ @r  
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系统构建块 |s`j=<rNQI  
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总结 3`uv/O2~i  
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几何光学仿真 (JHzwI8+  
    通过光线追迹 .lAqD-  
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结果：光线追迹 f4YcZyBGv  
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快速物理光学仿真 649{\;*4  
    通过场追迹 OFJ4
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 j hf%ze  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *@/1]W  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 c<-F_+[  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 cdiDfiE  
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总结 tS#=I.ET  
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