[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 CV]PCq!  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 tPO.^  
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场景 +A~lPXAXW  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 iBp 71x65  
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系统构建块 AN^
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 "*+epC|ks  
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系统构建块 ?aOR ^ K  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 +bdkqdB9  
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图片:1-21050H24542394.png

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几何光学仿真 JGj_{|=:  
通过光线追迹 }s}9@kl;&  
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结果：光线追迹 C>T6{$xkC  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 }-r"W7]k  
通过场追迹 CvbY2_>Nh  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 U}gYZi;;$  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 M\`6H8aLn  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Y Nq<%i!>  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 QtN0|q{af  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 A=XM(2{aN  
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图片:1-21050H2491WT.png