[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 2unaK<1s  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 4R~f  
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场景 E_[)z%&n2  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 EPZ^I)  
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系统构建块 :RH0.5)  
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组件求解器 4K(AXk  
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系统构建块 UA{tmIC\  
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总结 \1AtBc&  
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几何光学仿真 {x+"Ru~7,  
通过光线追迹 z g@,s"`>  
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结果：光线追迹 <HLe,  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 [Ipg",Su;f  
通过场追迹 jWg7
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )]=1W  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ],fu#pi=]  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6O`s&T,t  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Lv`*+;1K  

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总结 kHO2&"6  
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图片:1-21050H2491WT.png