摘要
6dCS Gb v*.[O/,EBR 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
DxFmsjX[L e#+u8 LrN bK\Mn95] LR:v$3 G( 建模任务
cILI%W1 %|tDb G<2OL#Y- f6I$d< 入射平面波
[dQL6k";b 波长 2.08 nm
e|t@"MxvC 光斑直径: 3mm
kkyi`_ZKn 沿x方向线偏振
\ r^#a GQ@`qYLZ+ 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
l8XgzaW 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
mM[!g'* OzVCqq"] 概览
Q|DVB •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
#K:!s<_" •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
u["3| `C5 bvxol\7 ; <Z nVWER 光线追迹模拟
_V.MmA •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
P1r)n{; •点击Go!
r@O5{V •获得3D光线追迹结果。
prWK U 3>~W_c9@ ho'Ihep,L U9*uXD1\ 光线追迹模拟
.J0Tn,m •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
XtJIaD|:3 •单击Go!
gXNlnh%?S •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
W<QMUu (R9{wGV [ ;ewqGDe'3 fLtN-w6t 光场追迹模拟
vhEqHjR: •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
3.t
j%+ •单击Go!
uIvAmc4 !Qqi% 5 $vUdDTg `GBa3 光场追迹结果(照相机探测器)
NMM$
m!zg KE~l#=S •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
|[ )e5Xhd •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
NrVE[Z# MJzY| L&I8lG Wq+a5[3" 光场追迹结果(电磁场探测器)
#80[q3 (2SmB`g •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
+sW;p?K7eO AgBXB%). 1Z h4)6x =hP7Hea(N Bp7`W:?#" &(Yv&jX `hVi!Q]*P ]RvFn~E!s