iQ8{N:58DN 光栅结构广泛用于
光谱仪、近眼显示
系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。
(@xC-* vfv?QjR RMT9tXe*5 SM
RKEPwp& 本用例展示了......
g |?}a]G •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如:
MZ-;'w&Z - 矩形光栅界面
jLI1Ed - 过渡点列表界面
*P/A&"i[E - 锯齿光栅界面
a6./;OC - 正弦光栅界面
mhhc}dS(H •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。
@S}j=k .[]S!@+% 光栅工具箱初始化 t`|Rn9- •初始化
XIbxi - 开始
=0Y0o_ 光栅
U!o 通用光栅光路图
wUr(i * •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状,
c|9g=DjK 可直接选择特定的光路图。
=CD6x=
l6 1)
2-UT EHn!ZrQgh 6c-'CW
光栅结构设置 XA;PWl5! •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和
材料。
dO1m RS}_cm0 •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。
[9Rh" H;h •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。
fcF| m5 zNKB'hsK {[Ri:^nHgL l6w\E=K •例如,选择第一个界面上的堆栈。
1<#D3CXK 9ETdO,L)f 堆栈编辑器 i_AD3Jrs •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。
O*?^a7Z)4 •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。
:'ZR!w a1I-d=] We}9'X} n5A|Zjk; 矩形光栅界面 oi7k#^ Y]`=cR`/" •一种可能的界面是矩形光栅界面。
_('
@'r •此类界面适用于简单二元结构的配置。
s-WZ3g •在此示例中,由银制成的光栅位于
玻璃基板上。
'\8YH+%It •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。
]$s)6)kW •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。
]rY9t@ Jf7H;ZM< k CGb~+ Z|a*"@5_ 矩形光栅界面 }15&<s •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。
?OnL,y| •所选界面在视图中以红色突出显示。
v ,h"u =d5;F`m •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。
DUu:et&c1 •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。
=2GKv7q$x, W%^!<bFk}m •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。
o!+'<IQ' •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。
xV14Y9 •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。
jMI30 H*<E5^#dw ERK{smL 5D7 L)> 7#UJ444b~ RZpjr !R 矩形光栅界面参数 8b7I\J` •矩形光栅界面由以下参数定义
,Q Ge=Exn - 狭缝宽度(绝对或相对)
Gy["_;+xU - 光栅周期
K9&Q@3V - 调制深度
8o,0='U •可以选择设置横向移位和旋转。
Vtj*O'0 M+ <SSi" &DYC3*)Jih =(TMcu$4` 高级选项和信息 \+U;$.)3 •在传播菜单中,有几个高级选项可用。
&*O'qOO<2 •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
};9/J3]m •可以设置总级次数或衰逝波级次数
XHgW9 ;M! (evanescent orders)。
N|)e {|k •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。
"Zn
nb*pOM •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。
#;8VBbc\^ uInI{> !JDuVqW IR2Qc6+{ •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。
p_n$}z •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。
e9:pS WA-n •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。
PW"?*~& •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。
UHfE.mTjM k{X+Y6'ku a ge8I$*`@ ;cL+=! 过渡点列表界面 xo
^|d3 •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。
{uZ|Oog(p •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。
%O[1yZh
\ •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。
{4[dHfIy cyjgi /Z Ya<KMBi3 过渡点列表参数 Z!'kN\z •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。
=7: }/& •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。
%M^Q{`
:5 ^pfM/LQ@ /K+;HAUTn e2nZwPH •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。
q~AvxO •此处,可以定义x方向和y方向的周期。
nddCp~NX •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。
qM^y@B2MO X^m@*,[s wt_ae|hv 3_eg'EP.E 高级选项及信息 >:
@\SU •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。
FS?1O"_ iztF Ia^/^> 3%x-^. 正弦光栅界面 OWYY2&.h •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。
+@@( C9 •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。
7
X~JLvN •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料:
wlP%
U - 脊的材料:基板的材料
cIuCuh0I` - 凹槽材料:光栅前面的材料
j_zy"8Y{ e5ww~%, k5)IBO ,~K4+
t_ 正弦光栅界面参数 f,-'eW/j - 正弦光栅界面也由以下参数定义:
]HG>Og •光栅周期
-fK_F6_\] •调制深度
PCKxo;bD - 可以选择设置横向移位和旋转。
" M&zW& - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。
"MOmJYH Q6[h;lzGV $T2zs$ <2+FE/3L 高级选项和信息 z-S8s2.Fd •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。
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ZI'q 5pE@Ww -r{]9v2j 高级选项及信息 $)(Zt^ •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。
dSzq}w4xY qJj5_ Lb2/ Te* 锯齿光栅界面 4-xg+*() •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。
xSjs+Y;Mu •此界面允许配置闪耀结构的光栅。
As#/ln$nE •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料:
dC">AW - 脊的材料:基板的材料
PF;`mdi-, - 凹槽材料:光栅前面的材料
MCfDR#a A Rjox` FBI^}^#_ oVnHbvP1X 锯齿光栅界面参数 mY]R~: •锯齿光栅界面也由以下参数定义:
Ml,87fo - 光栅周期
g*:f#u5 - 调制深度
[UaM}-eR •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。
()@+QE$ •可以选择设置横向移位和旋转。
gMZ
` •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。
fTA%HsvU: 0o&7l%Y/
0GiL(e| & Pzr)W( 高级选项和信息 kR(hUc1O •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。
9m_Hm')VG ais"xm<V 探测器位置的注释 UR.l*+<W7 关于探测器位置的注释 ^<'=]?xr •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。
`Jon^&^;| •如果光栅包含在复杂的
光学装置中,则必须这样做。
Z&0*\.6S~ •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。
i!EN/Bd •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估
软件)。
`zOQ*Y& •可以避免这些干涉效应的不良影响。
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