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sBqOcy 内容简介 5P 5Tgk Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 oEj$xm_} 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 j#Lj<jX!xR 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 B7.&yXWgn {k[dg0UV [
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1rLxF{, 目录 K]|hkp& Preface 1 m@0> =s~. 内容简介 2 N S*Lv 目录 i $d,{I8d 1 引言 1 =Mxu,A 2 光学薄膜基础 2 !67xN?b 2.1 一般规则 2 CJs
~!ww 2.2 正交入射规则 3 ,Z! I ^ 2.3 斜入射规则 6 ;W FiMM\ 2.4 精确计算 7 1F3Q^3+ 2.5 相干性 8 yT='V1 2.6 参考文献 10 .NxskXq) 3 Essential Macleod的快速预览 10 *O)i)[" 4 Essential Macleod的特点 32 W`TSR?4~t? 4.1 容量和局限性 33 u),.q7(m 4.2 程序在哪里? 33 =ReSlt 4.3 数据文件 35 40dwp*/! 4.4 设计规则 35 2pP"dX 4.5 材料数据库和资料库 37 qG g2 9 4.5.1材料损失 38 %mzDmrzq 4.5.1材料数据库和导入材料 39 >}JEX]V 4.5.2 材料库 41 'R42N3|F 4.5.3导出材料数据 43
&Mt0Qa[ 4.6 常用单位 43 W%o! m,zFM 4.7 插值和外推法 46 ~lqNWL^l 4.8 材料数据的平滑 50 ]6O(r)k 4.9 更多光学常数模型 54 1Y~'U
=9 4.10 文档的一般编辑规则 55 ld 1[Usaq 4.11 撤销和重做 56 CLJn+Y2 4.12 设计文档 57 0V`~z-# 4.10.1 公式 58 C^,J6;' 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~d ~oC$=TC 4.10.3 沉积密度 59 j8rxhToC 4.10.4 平行和楔形介质 60 roe_H> 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ?@MWV 4.10.4 性能 61 jX*gw6! 4.10.5 保存设计和性能 64 +~M.VsX 4.10.6 默认设计 64 %dhrXK5 4.11 图表 64 ;M\Cw.%![ 4.11.1 合并曲线图 67 Be<bBKQb 4.11.2 自适应绘制 68 QA)W( 1 4.11.3 动态绘图 68 `Ao"fRv# 4.11.4 3D绘图 69 wgq=9\+& 4.12 导入和导出 73 X\*H7;k, 4.12.1 剪贴板 73 ?MFXZ/3(ba 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Z^mQb2e. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Vf=,@7 4.13 背景 77 7_lgo6 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 |t;Ktl 4.15 生成Rugate 84 X?/32~\ 4.16 参考文献 91 b!nA.`T 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 D}-HWJQA3 5.1 Jobs 92 #Pg?T%('` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Y|W#VyM- 5.3 输入材料 94 :R$v7{1 5.4 设计数据文件夹 95 HW"5MZ8E 5.5 默认设计 95 -Hy>
z 6 细化和合成 97 -Y N(j\ 6.1 优化介绍 97 G%h+KTw 6.2 细化 (Refinement) 98 =CCddLO 6.3 合成 (Synthesis) 100 O~6AX)|&= 6.4 目标和评价函数 101 (/t{z= 6.4.1 目标输入 102 KxfH6:\RB 6.4.2 目标 103 Gvr>n@n 6.4.3 特殊的评价函数 104 -OKXfN] 6.5 层锁定和连接 104 gI@nE:(m 6.6 细化技术 104 t$R0UprK 6.6.1 单纯形 105 /1= x8Sb 6.6.1.1 单纯形参数 106 ?,[$8V 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \\d8ulu 6.6.2.1 Optimac参数 108 r "\<+$ 7 6.6.3 模拟退火算法 109 Wv,?xm 6.6.3.1 模拟退火参数 109 kb~ 9/)~g 6.6.4 共轭梯度 111 NvpDi&i 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 M.C`nI4 6.6.5 拟牛顿法 112 !9j6l0 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 c^5fhmlt 6.6.6 针合成 113 <\d2)Iv 6.6.6.1 针合成参数 114 >km$zfM2- 6.6.7 差分进化 114 F>%,}Y~B: 6.6.8非局部细化 115 (+BrC` 6.6.8.1非局部细化参数 115 %0f*OC 6.7 我应该使用哪种技术? 116 z@jKzyq 6.7.1 细化 116 QPvWdjf#mM 6.7.2 合成 117 cwQ*P$n 6.8 参考文献 117 S>"C}F$X 7 导纳图及其他工具 118 1WY$Vs 7.1 简介 118 X[?E{[@Z 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 EFu> 7.2.1 四分之一波长规则 119 Us> 7.2.2 导纳图 120 jX t5.9 t 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $ylxl"Y 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 I6S>*V 7.5 斜入射导纳图 141 ?~]mOv> 7.6 对称周期 141 n~i^+pD@ 7.7 参考文献 142 Ku3NE-) 8 典型的镀膜实例 143 i/C0
(! 8.1 单层抗反射薄膜 145 DnF|wS 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ^{E_fQJX 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 SF[Z]|0gs 8.4 W-膜层 148 *2YWvGc 8.5 V-膜层 149 Lr`Gyl62 8.6 V-膜层高折射基底 150 C"k]U[%{ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 >R\@W(-g` 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |m$]I4Jr 8.9 四层抗反射薄膜 153 'sk M$jr 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 q1|@v#kH6 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 _e|-O>#pl 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ZalL}?E
? 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Q"oJhxS 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 1X?q4D" 8.15十五层宽带抗反射膜 159 JNu+e#.Y 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ;N
_%O 8.17 1/4波长堆栈 162 :"+3Uk2 8.18 陷波滤波器 163 hm1.UE 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 CY!H)6k 8.20 褶皱 165 FGpV
]p 8.21 消偏振分光器1 169 =]<X6!0mR 8.22 消偏振分光器2 171 .O{_^~w_q 8.23 消偏振立体分光器 172 ~k ]$J|}za 8.24 消偏振截止滤光片 173 XKT[8o<L 8.25 立体偏振分束器1 174 QCfR2Nn} 8.26 立方偏振分束器2 177 Jd33QL}Hj 8.27 相位延迟器 178 _Vr}ipx-k 8.28 红外截止器 179 OoZv\"}!_ 8.29 21层长波带通滤波器 180 ^j?"0| 8.30 49层长波带通滤波器 181 }< |