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5W'|qmJ 内容简介 5.UgJ/ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Ev ,8? 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 e';c8WF3E 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 PEhLzZX+ hpKc_|un 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 S(s~4(o>8 目录 }+Z;zm@/6 Preface 1 KAEpFobYo 内容简介 2 {]N?DmF 目录 i $)a5;--W 1 引言 1 !t{!. 2 光学薄膜基础 2 TyXOd,%zl 2.1 一般规则 2 m5g: Q 2.2 正交入射规则 3 @}RyW&1Z 2.3 斜入射规则 6 $\H46Ji 2.4 精确计算 7 82l";;n4p 2.5 相干性 8 v)pWx0l= 2.6 参考文献 10 1#RA+d( 3 Essential Macleod的快速预览 10 RtEkd_2 4 Essential Macleod的特点 32 ?E+XD'~ 4.1 容量和局限性 33 ee\zU~ 4.2 程序在哪里? 33 K",]_+b 4.3 数据文件 35 j* ja) 4.4 设计规则 35 JYUKs~Qt 4.5 材料数据库和资料库 37 ~kFRy {z 4.5.1材料损失 38 0 ']M,iC/ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 "FD~XSRL 4.5.2 材料库 41 Ps-d#~4U; 4.5.3导出材料数据 43 (P_+m# 4.6 常用单位 43 p 1fnuN |, 4.7 插值和外推法 46 -OAH6U9^ 4.8 材料数据的平滑 50 $o^}<)DW 4.9 更多光学常数模型 54 |mX8fRh 4.10 文档的一般编辑规则 55 +fmZ&9hFNJ 4.11 撤销和重做 56 OQyOv%g5C 4.12 设计文档 57 S)h1e%f,
f 4.10.1 公式 58 69L&H!<i: 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;W:Q}[ 4.10.3 沉积密度 59 3g?T,|2K 4.10.4 平行和楔形介质 60 vsR&1hs 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Vngi8%YWp 4.10.4 性能 61 IRY2H#:$ 4.10.5 保存设计和性能 64 :eO0{JN4T 4.10.6 默认设计 64 v]sGdZ(6- 4.11 图表 64 AO]e^Q 4.11.1 合并曲线图 67 5lbh
"m= 4.11.2 自适应绘制 68 zE{zX@ 4.11.3 动态绘图 68 KcE=m\ h 4.11.4 3D绘图 69 <9vkiEo 4.12 导入和导出 73 eSf:[^ 4.12.1 剪贴板 73 "b;?2_w:E 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Ja2.1v|r. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 B dUyI_Ks: 4.13 背景 77 q3t@)+l>* 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 b87d'# . 4.15 生成Rugate 84 kE}Ib4]J 4.16 参考文献 91 xDS9gGr 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 H(| v 5.1 Jobs 92 P n DZi 5.2 创建一个新Job(工作) 93 48VsHqG 5.3 输入材料 94 v4G kf 5.4 设计数据文件夹 95 >@o*v*25 5.5 默认设计 95 c{0?gt. 6 细化和合成 97 ~<3yTl> 6.1 优化介绍 97 'rgV]Oy 6.2 细化 (Refinement) 98 O jmz/W 6.3 合成 (Synthesis) 100 x(Z@R\C-a 6.4 目标和评价函数 101 UgJHSl 6.4.1 目标输入 102 t!$/r]XM h 6.4.2 目标 103 'AU!xG6OQ 6.4.3 特殊的评价函数 104 8h=XQf6k0 6.5 层锁定和连接 104 +iR;D$w 6.6 细化技术 104 ]0O$2 j_ 7 6.6.1 单纯形 105 X5=7DE] 6.6.1.1 单纯形参数 106 BN67o]*]< 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 I&9B^fF6 6.6.2.1 Optimac参数 108 g}7B0 yo 6.6.3 模拟退火算法 109 *9PQJeyR 6.6.3.1 模拟退火参数 109 {z7{ta 6.6.4 共轭梯度 111 8,Z0J 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 m[XN,IE#u 6.6.5 拟牛顿法 112 a &j?"o 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 B^Q#@[T 6.6.6 针合成 113 e#
DAa 6.6.6.1 针合成参数 114 f\JyN@w+ 6.6.7 差分进化 114 S_atEmQ 6.6.8非局部细化 115 }\ F>z 6.6.8.1非局部细化参数 115 ,$Mw/fA 6.7 我应该使用哪种技术? 116 T/ov0l_ 6.7.1 细化 116 utXcfKdt 6.7.2 合成 117 >X]<s^
6.8 参考文献 117 {>qCZ#E5WO 7 导纳图及其他工具 118 @9L9c 7.1 简介 118 ??Lxb% 7R 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Jq->DzSmj/ 7.2.1 四分之一波长规则 119 ,^(T^ - 7.2.2 导纳图 120 D'X'h}+2 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 QZY(S*Up 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 T
&1sfS, 7.5 斜入射导纳图 141 S70ERRk 7.6 对称周期 141 Jg:'gF]jt 7.7 参考文献 142 [O3R(`<e5 8 典型的镀膜实例 143 GZ%RfKyQ 8.1 单层抗反射薄膜 145 *e R$ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 p ,!`8c6 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ifkA3] 8.4 W-膜层 148 Mm5l> D'c 8.5 V-膜层 149
T "z!S0I 8.6 V-膜层高折射基底 150 (?Yz#Yf 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 +1Uw <~ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ]3v 8.9 四层抗反射薄膜 153 JBqzQ^[n 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 $]vR ,E 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
&HE8O}<> 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 SOm~];[ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 HZm44y$/ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 X!@Gv:TD 8.15十五层宽带抗反射膜 159 }K/[3X=B 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 H/b(dbs 8.17 1/4波长堆栈 162 ?E`J-ncP 8.18 陷波滤波器 163 uGv+c.~[j 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 a'|0e] 8.20 褶皱 165 I%ez_VG 8.21 消偏振分光器1 169 (z[cf|he 8.22 消偏振分光器2 171 mHP1.Z` 8.23 消偏振立体分光器 172 0YS*=J"7z 8.24 消偏振截止滤光片 173 YpWu\oP 8.25 立体偏振分束器1 174 c/s'&gG33z 8.26 立方偏振分束器2 177 @{a(f; 8.27 相位延迟器 178 E?;W@MJi 8.28 红外截止器 179 6@d( <Z 8.29 21层长波带通滤波器 180 hZpFI?lqc\ 8.30 49层长波带通滤波器 181 A4#m&o |