-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2024-10-31
- 在线时间1484小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)是一种常用的技术,由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度,而被用在许多使用薄膜结构的应用中,如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中,我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂层上的使用。对于系统的参数,我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)概述。I. 基本理论和典型应用",并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 mfUKHX5 "F04c|oR<X Q9SPb6O2 `<bCq\+` 任务描述 o(vZ*^\ if\k[O 1T6 Pau&4h0 cM|af#o 镀膜样品 Uia)5z z8 关于配置堆栈的更多信息。 Ebmqq#SHjX 利用界面配置光栅结构 ,2Sv1v$ 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下,使用一个非常小的周期,以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 AJdlqbd'+ - 涂层厚度:10纳米 8j({=xbg& - 涂层材料。二氧化硅 us(sZG - 折射率:扩展的Cauchy模型。 t%ou1&SO >0[qi1 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 GIJV;7~ - 基板材料:晶体硅 %@)U/G6s} - 入射角度。75° $H
%+k? Y>c5:F; PLlx~A \v B9fA:* 椭圆偏振分析仪 K.c6Rg 9~*_(yjF ZfF`kD\ V1AEjh 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥,以及反射光束的振幅分量Ψ。 =t <:zLe 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 aa'0EU: b3jU~L$ 椭圆偏振分析仪 jp\JwE .'+|>6eU *&~sr D
z]}@Z*jK 总结 - 组件... $]`'Mi |ij W_r j8F~j?%! oC;l5v< :$u{ 9^=t@ 椭圆偏振系数测量 !~VR|n- ?`BED6$`G9 椭圆偏振分析仪测量反射系数(s-和p-极化分量)的比率𝜌,并输出相位差𝛥,以及振幅分量Ψ,根据 fNmG`Ke 5Od(J5` }*{\)7g O=9V X 在VirtualLab Fusion中,复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析(RCWA),也被称为傅里叶模态法(FMM)来计算。因此,在研究光栅样品的情况下,这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 B_6v'=7] Mf,Mcvs M2;(+8 b XJV3oj 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 Uz m[e%/` Jh/M}%@| 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性,对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化,1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率(0.02°为𝑇,0.1°为𝛥*)。因此,即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 3IRRFIiO e`gGzyM !SD [6Z.R * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) S|Ij q3 %`<`z yf 仿真结果与参考文献的比较 GurE7J^= S{r)/~/ 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时,𝛹和𝛥的差异。 y("0Xve a5Acqa
xaq=?3QOH jd*%.FDi{ VirtualLab Fusion技术 .w*{=x0k %V" +}Dr [F9KC^%S eG2qOq$[ k%4A::=
|