介绍
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模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间)
FyV $`c$ 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。
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IC 光源在时域中设置为CW(λ= 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
o3le[6C/8= 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果
uao#=]?) WKq{g+a Qo80u?* F*y7 4j, [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
Mp@dts/| [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
A!a.,{fZ WH.3 3D FDTD仿真
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[ 要模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间)
[`1@`5SL- 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。
2hb>6Z;r]K 光源在时域中设置为CW(λ= 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
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注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果
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~X<1D ,/dW*B zTw<9 Nf ixB"6O 7_L$ XIa 仿真结果
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`;Hd8 F1%^,; 顶视图展示了锥形硅波导的有效
耦合。
d}@n,3 k:z)Sw 底部视图显示了不同位置的模式转换(左:25 um,中间:65 um,右:103 um)
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m(j (来源:讯技
光电)