亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
镜片常见不良及解决思路
,SAbC*nq ヤケ(腐蚀、发霉、压克)
6%>/og\% 定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。
DK)u)?! 前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。
JdtPY~k0 ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象:
!@( M_Z' /;DjJpwf0 \ZqK\= #
2d,U\_ )eECOfmnZ 几种相关名词:
[4Y[?)7 1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见)
NNgK:YibD Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹;
}bp.OV-+ Ø 镀前透过光检查为白色雾状;
<p09oZ{6 Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;
gTnS[ Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀;
&%6NQWW Ø 洗净烘干时水分残留;
Bn{)|&; Ø 擦拭时后的溶剂残留;。
rrAqI$6 2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)
gNTh% e Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;
WI6(#8^p Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成;
YtMlqF 3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)
vuZf#\zh} Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。
J8J!#j. Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;
x =h0Fq,T Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;
0:. 6rp 4、 膜下ヤケ:
5E`JD Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见;
5\&]J7( Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见;
O)`Gzx*ShU Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见
A0OB$OK Ø 色斑: 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕;
3 tF: 5、 膜色ヤケ:
i$["aP~G Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失;
2qlIy 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现
7x(v? W1hX?!xp! bH,M,xIL2 Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化;
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B(<.E2 Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域;
aV#h5s Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;
/eb-'m Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤;
y`6\L$c 6、 雾状:(非ヤケ)
9ZhDZ~)p, Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀;
Tv1]v. Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
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-2"I 7、 黑ヤケ
@gEr+O1K( Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;
W/=7jM Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除,
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Z|w Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重;
%XR<isn 8、 细伤痕:(非ヤケ)
\OT6L'l], Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等;
~XKZXGw Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;
JL``iA 9、 水纹印ヤケ
vbaC+AiX Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干;
djfU:$!j& Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多;
L0xsazX:x Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
{pC\\} ヤケ关联图
(7~%B" 7VY8CcL >MPa38 通常处理思路:
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6A 一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度;
S}b~_} 1、 镀前ヤケ:
;P8(Zf3wJb Ø 检查方法:
dWUUxKC 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;
5e8xKL 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;
e,"FnW 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;
H#`8Ey 2、 镀膜色差
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3B`Krh Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)
fdLBhe#9M 2.1.膜色ヤケ
pZjpc#*9N Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;
1fR P1 3、 膜层脏污:
,\x$q' A、膜上脏污:
C/)`<b( Ø 对策/处理:
x9D/s`! 2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);
.:N:p We 2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);
dXK-&Po' 2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);
b` zET^F 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;
v^TkDf(Oz 2 试验/验证:
x 'mF&^ 2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除;
6+e4<sy[E B、膜下脏污:
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aA;<# Ø 对策/处理:---- 镀前处理
wPgDy 2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);
P7UJ-2%Y+ 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;
\%4|t,en 2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭);
d' OGVN Ø 试验/验证:
&`@lB (m 2 镀前反射光下“哈汽法”确认,
A%n?} 2 镀后不可擦拭
d- kZt@DL= 4、 膜下ヤケ:
t\%%d)d9 Ø 对策/处理:---- 镀前处理
[T]Bf o 2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整)
d"GDZ[6 2 考虑材质调整研磨工艺:
m9!DOL1pl n 采取研磨后直接镀膜工艺:
Ld~ q1*7J 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜;
q :8\e n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等);
bw5T2wYZ n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净);
S<pkc8 n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;
mLaCkn n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等);
$L\@da? n 先镀易ヤケ面
zR/IqW.`9 2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等)
bvp)r[8h 2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭)
]5)"gL%H` Ø 试验/验证:
`M0YAiG 2 通过手工处理确认镀后品质
v2=/[E@ 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
[4\aYB 9N 5、 膜色ヤケ:
6klD22b2$ Ø 对策/处理:
ZPvf-PqJl 2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));
yzg9I 2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;
p&O8qAaO 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)
QoseS/ 2 放置变化(变重/消失)
O4!9{ 6、 雾状:
X Ny
Y$ Ø 对策/处理:
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{<HU?BT 2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)
Khap9a_q- à 确保砂挂完品表面粗糙度);
sZwZWD' 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等)
ofK='G. à 确保研磨完品表面粗糙度);
0e\y~#- 2 研磨完后追加黑毛纸抛光;
@(){/cF 2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等);
+`Fb_m)f 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;
tvT4S 2 膜层致密度提高;
lvPpCAXY Ø 试验/验证:
B/G3T
u uG 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
Bj8<@~bX:L 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
gCL{Cw 7、 黑ヤケ
vnZ4( Ø 反射光检查
s-%J5_d f Ø 对策
7*MU2gb 2 镀膜时O2的增加
vzcz<i ) 2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理
Uuz?8/w}# 8、 :细伤痕
Q.1XP Ø 同雾状
MX?}?"y 9、 水纹ヤケ
pl?kS8#U? Ø 更换烘干剂
AA2ui% 以上