光波导相控阵技术研究综述

3 国内外光波导相控阵研究进展

国外在光学相控阵特别是光波导相控阵研究较早，主要是美国、欧洲以及日本。自从20世纪60年代微波相控阵技术问世以来，研究者做了大量的研究工作。

3.1 国外一维光波导相控阵的研究进展

光波导相控阵研究是从微波相控阵技术发展过来的，由于光波导相控阵技术波长更小，采用的技术和加工精度不同于微波相控阵技术，国外一维光波导相控阵的研究进展情况如表1所示。

表1.国外一维光波导相控阵的研究进展

由表1看出，随着加工工艺的发展，光波导相控阵的尺寸越来越小、阵元间隔越来越小；控制电压由千伏到毫伏量级；偏转角度越来越大。

3.2 国外二维光波导相控阵的研究进展

二维光波导相控阵扫描是在一维的基础上发展起来的，相比一维光波导相控阵，其器件更加复杂。研究发展进程如表2所示。

由表2可知，国外二维光波导相控阵的发展与工艺越来越紧密，随着加工工艺的发展，相控阵模块越来越小，阵元间距也越来越小，阵元的损耗越来越低，空间扫描的角度越来越大，实用性越来越强，已研制出光波导相控阵原理实验样机。

3.3 国内光波导相控阵的研究进展

国内在光波导相控阵方面的研究进展如表3所示。由表3看出，国内在光波导相控阵研究还处于初期阶段，由于光波导阵列器件加工工艺在国内有限，控制系统由多组控制线的小规模集成电路构成，性能和国外还有一段差距。

表2.国外二维光波导相控阵的研究进展

从国内外光波导光学相控阵的研究进展可以看出，光波导光学相控阵集成度越来越高、扫描角度越来越大；控制方式由单级级联控制到多级级联控制、相控阵单元的传输损耗越来越小、控制电压越来越小。