关于光刻机的那些事

实际上，光刻的原理不难，难还是主要难在光刻机的制造上。光刻机的镜头、光源生产、机械结构，几万个小元件的调整与制造，任何一点拿出来都是某个领域最强者的独门绝技。ASML（高端光刻机的垄断者）的总裁温彼得曾经说过，如果说，光刻机镜头有整个德国那么大，那么形变最大的地方，不能高过一公分。可见对于机器制造来说，这种要求是多么的苛刻。

光刻机的原理图

全世界最高端的光刻机产自荷兰的ASML公司，它是世界最高端的光刻机生产者，也是唯一的生产者。它所生产的极紫外光刻机（EUV光刻机），可以前所未有地突破22纳米制程限制，被称为第五代光刻机。

AMSL生产的光刻机

我国在芯片领域落后国际良多，需要加速追赶。国内量产精度最高的光刻机也不过90纳米，实验室里也只能实现22纳米。不过，中国科学院长春光机所在极紫外光刻方面首次完成了32nm光刻机的研制，在该方面迈出国内第一步，为未来的研究打下了良好的基础。