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    • 2011-09-05 22:43jjy型分光计构件介绍 [光学技术]
         jjy型分光计（附d=（1/300）mm的衍射光栅），汞灯光源。分光计是一种能精确测量角度的光学仪器，可以用来测量材料的折射率、色散率、光波长和进行光谱观测等。由于该装置比较精密，控制部件较多而且操作复杂，所以使 ..
    2011-09-05 22:41光电检测技术的特点 [光学技术]
         光电检测技术的特点如下： 高精度 从地球到月球激光测距的精度达到1米。 高速度 光速是最快的。 远距离、大量程：遥控、遥测和遥感。 非接触式检测 不改变被测物体性质的条件下进行测量。 ..
    2011-09-05 22:41什么是光电效应？光电效应的分类有哪些？ [光学技术]
         光照射到物体表面上使物体发射电子、或导电率发生变化、或产生光电动势等，这种因光照而引起物体电学特性发生改变统称为光电效应。
    2011-09-05 22:40光热效应相关知识介绍 [光学技术]
         光热效应：材料受光照射后，光子能量与晶格相互作用，振动加剧，温度升高，材料的性质发生变化。
    2011-09-05 22:36光刻工艺过程详解 [光学技术]
         本文介绍光刻工艺过程，供相关专业人士参考。
    2011-09-05 22:34光刻中常见的效应和概念 [光学技术]
         光刻中常见的效应和概念介绍如下，供相关专业技术人员参考。
    2011-09-05 22:23真空在薄膜制备中的作用 [光学技术]
         真空在薄膜制备中的作用主要有以下两点： 1.减少蒸气分子与残余气体分子的碰撞 nd＝noe-d/l f=1-e-d/l d 为蒸发分子行进的距离 如果平均自由程＝蒸发源到基片的距离即d=l时，f=63%； 平均自由程增加10倍,f= ..
    2011-09-05 22:21离子镀的优点及其用途 [光学技术]
         离子镀是真空热蒸发和溅射两种技术结合而发展起来的一种新工艺。
    2011-09-05 22:18镀膜主要工艺因素简介 [光学技术]
         镀膜主要工艺因素如下： 1.基板处理；包括抛光、清洁、离子轰击； 2.制备参数；包括基板温度、蒸发速率、真空度； 3.蒸汽入射角； 4.老化处理
    2011-09-05 22:18薄膜主要性质 [光学技术]
         薄膜主要性质简介，供相关人士了解。
    2011-09-05 22:10三种镜头的设计差别解析 [光学技术]
         一、照相镜头 照相镜头的光学特性可由三个参数来表示，即照相镜头的焦距f'、相对孔径d/f'和视场角2ω'。其实就135 照相机而言，其标准画幅已确定为24mm x 36mm，则其对角线长度为2d=43.266。从下表我们可以 ..
    2011-09-05 22:01灯具工程技术常用术语介绍 [照明技术]
         灯具工程技术常用术语介绍，供相关专业人员参考。
    2011-09-05 21:57光谱仪的组成部件介绍 [光学技术]
         光谱仪是一种用于对光信号进行频谱分析的仪器。它具有光信号采集，色散，成像等几大功能。
    2011-09-05 21:52led应用封装要点解析 [照明技术]
         led应用封装技术对led的散热，寿命等基本参数至关重要，本文对led封装常见要点进行简单介绍分析，供led相关人员参考。
    2011-09-05 21:50led光源的发展历史简介 [照明技术]
         本文主要对led光源的发展历史做简单的介绍，供led相关专业人士了解。
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