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    [资讯]南大光电ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺 [复制链接]

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    离线cyqdesign
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 05-22
    关键词: 光刻机光刻胶
    作为半导体卡脖子的技术之一,很多人只知道光刻机,却不知道光刻胶的重要性,这个市场也是被日本及美国公司垄断,TOP5厂商占了全球85%的份额。国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G 线(436nm)、I 线 (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口,EUV光刻胶目前还没有公司能生产,基本上都控制在日本公司手中。 u3. PHZ  
    GO)rpk9  
    不过EUV光刻胶也不是急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要,目前国内有多家公司正在攻关中,这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。 n#&RY%#`  
    f<;9q?0VF  
    今天,南大光电在互动平台表示,公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。 S-/ #3  
    UUU^YT \  
    根据南大光电公司之前的 消息,公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”,已获得国家“02 专项”的相关项目立项,公司计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨 193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品将满足集成电路行业需求标准 -mkync3  
    KFs` u6  
    (来源:雷锋网)
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    离线luobin2434
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    只看该作者 1楼 发表于: 05-22
    感谢站长分享
    在线tassy
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    只看该作者 2楼 发表于: 05-23
    半导体卡脖子的技术之一
    离线bairuizheng
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    只看该作者 3楼 发表于: 05-23
    全面各种提升到顶尖最能不受限
    离线likaihit
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    只看该作者 4楼 发表于: 05-23
    半导体卡脖子的技术之一
    离线redplum
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    只看该作者 5楼 发表于: 05-23
    真的很厉害
    离线te67f42
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    只看该作者 6楼 发表于: 05-23
    支持国产,为国产助威。感谢站长提供的信息——南大光电Ar光刻胶。过了这么多年,竟然还是日本的科技比较先进耶!
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    只看该作者 7楼 发表于: 05-23
    南大光电ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺
    离线从业者007
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    只看该作者 8楼 发表于: 05-23
    真是在米国打压华为大背景下的振奋人心的消息!
    离线不懂想问
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    只看该作者 9楼 发表于: 05-23
    南大光电ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺
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