膜外⽩雾 EdL2t``
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 aE|'%72g
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） ^aG$9N<\
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： iGq%|o>
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； yMG(FAyu
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 o*MiKgQ&
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ @%lkRU)
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ ]& 8c
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⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 [}Q_T.4)E
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 sKy 3('5;
⑦ 膜与膜之间的应⼒ YD3jP}Ym
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 y+\kZIqX
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 #B!| sXC
改善对策： n;@.eC,T/
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 ZLjEH7
洁） }_/]f !]
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 sX@}4[)<&
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 1Clid\T,o
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 noNJ+0S
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 4,,DA2^!
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） ]OSq}ul
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 qX[{_$^Q
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 -Oi8]Xw^@y
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 {MRXK nm;e
膜内⽩雾 9^L{)t>
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 Pz^C3h$5_
可能的成因： ') Q
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 ~'V&[]nh8
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 T_)g/,5>
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 3F?7oMNIh
④ 氧化物充氧不够。 Yd Z9##IU3
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 )[S#:PP
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 tk)J E^'
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 KuRJo ]
⑧ 环境湿度⼤ ,i jB3J
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 &SG5 f[
问题。 .@Lktc
改善对策： C'y4 ~7
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 7|HIl=
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 _/czH<
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ {Gr"lOi*@
燥、⼲净。 {/FdrS
㈣改善环境 +CVB[r#hu
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 5t I#UBha
㈥改善洗净、擦拭效果。 S:K$fFcJ
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） fs l
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㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） +/[L-&,
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 zviTGhA
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
