膜外⽩雾 `::'UfHc
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 ,lS-;.
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） %T TL^@1!b
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： <9.7 gwz E
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； +-YuBVHL
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 }~~^Z tJ\
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ 1z@# 8_@
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ rbZ 6V :
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 uZ?CVluP
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 yr
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⑦ 膜与膜之间的应⼒ vyOC2c8
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 ^8*SCM_A
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 _3G)S+ 7#
改善对策： lLFBop
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 Y+`-~ 88
洁） 0?;Hmq3
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 {s' _zS z
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 tBI+uu aa2
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 YM* 6 W?
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 svRaU7<UDN
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） }vA
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㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 A*U'SCg(G
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 V42*4hskL
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 eh/OCzWH
膜内⽩雾 Au*?)X- $
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 H;Qn?^
可能的成因： ?BvI /H5d
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 YYr&r.6
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 GfPz^F=ie.
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 (BQ3M-
④ 氧化物充氧不够。 bYB}A :
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 KXfW&d(Pk
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 GaqG 8% .
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 v]SE?xF{U
⑧ 环境湿度⼤ Z=[ a 8CU
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 +Q] 'kJ<s
问题。 =i>F^7)U1
改善对策： q>4i0p8^
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 VEKITBs
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 w >BFg b?
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ w*P4_=
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燥、⼲净。 Y4!q 1]TGX
㈣改善环境 y1My,
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㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 NWN )b&}
㈥改善洗净、擦拭效果。 7kpW 1tjY
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） m_I$"ge
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） < LAD
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 #$B,8LFz,$
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
