膜外⽩雾 k@\ iGqo
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 cIUH a
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） ?TM ,Q
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： Jk&3%^P{m
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； UXeN 8
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 f6EZ(
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③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ B%"
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④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ Bu#E9hJFvA
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 2 X.r%&!1M
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 @>u]4Jn
⑦ 膜与膜之间的应⼒ 8N !b>??
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 |pm7 _[
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 gGvz(R: y
改善对策： SlgN&{ Bk
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 9l|@v=gw.
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㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 +?F[/?s5qz
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 , qA(\[
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 u&1q [0y
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 4^:\0U F
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） 0 bz'&
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 7[w,:9& }
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 ?b*s.
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㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 }d&_q7L@@6
膜内⽩雾 <_h~w }
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 F{Z~ R
可能的成因： O|\J}rm'
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 g@rb
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 gaQdG=G8$
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。
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④ 氧化物充氧不够。 Fa?~0H/DL
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 :S.9eFfa
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 'r4/e-`pK
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 3) 8Q S
⑧ 环境湿度⼤ t'VV>;-RO=
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 rw: c
问题。 11TL~ xFh
改善对策： }
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㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 4S5,w(6N
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 * $yR*}A
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ 1s%#$ 7
燥、⼲净。 V}bjK8$$
㈣改善环境 6 2'j!"xv
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 ;L cVr13J/
㈥改善洗净、擦拭效果。 ?a8^1:
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） @AG n{q
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） r) HHwh{9
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 Z9:-rcr
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
