膜外⽩雾 <T2~xn
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 ,;ruH^
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） T[$hYe8%^
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有：
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① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； ^[?+=1
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② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 Kd[`mkmS
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ 02 c.;ka3
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ e !x-:F#4j
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 n~>CE "q
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 )1yUV*6
⑦ 膜与膜之间的应⼒ \S@ =zII_
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 `::(jW.KO
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 KL\=:iWA
改善对策： NVh>Q>B$_
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 cS ;=_%~
洁） ' ^L
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 {c
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㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 u9~V2>r\
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 wT AEJ{p
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 r
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㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） k49n9EX
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 SVEA
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 lJQl$Wx^
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 7/$Z7J!k
膜内⽩雾 :bF2b..XOu
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 B46H@]d#7K
可能的成因： y42 T.oK8c
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 ^0?cyv\>LA
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 Ty`=U>K|
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 !rmo* -=^=
④ 氧化物充氧不够。 )^@V* $ D
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 ScmzbD u
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 ,?N_67
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 ,7$uh):
⑧ 环境湿度⼤ Nm :lC%>X
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 bIl0 rx[`
问题。 [67f; ?b
改善对策： M]zNW{Xt
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 3K] 0sr
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 q@yabuN@,j
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ #:5g` Ch4,
燥、⼲净。 u^.k"46hn
㈣改善环境 }@0.
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 N0 KRND
㈥改善洗净、擦拭效果。 8}b[Q /h!
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） c] 9CN
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） *1]k&#s
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 3\~fe/z'I
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
