膜外⽩雾 a5-\=0L~
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 6fkr!&Dy7
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） h,x]
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： $ZS9CkN
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； v\ Ljm,+
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 (5> ibe
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ % \l,X{X
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ aW"!bAdx`,
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 'T[zh#v>S
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 mw[4<vfB0a
⑦ 膜与膜之间的应⼒ +!v RU`
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 0R&
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光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 Bt,Xe~$z-
改善对策： O[ !o1.
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 D@^ZpN8r
洁） ' l|_$3
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 A-5 +#
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 Aq!['G
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 WM"^#=+$
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 Q$1K{14I
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） \#aVu^`eX
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 5-^%\?,x
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 >K
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㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 ~-5@- V
膜内⽩雾 Jdn*?hc+
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 yf) `jPM1<
可能的成因： >|) 0Amt
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 KIo}G d&
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 &._!)al
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 _m],(J=,z
④ 氧化物充氧不够。 =[JN'|Q+
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 /BM1AV{s6
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 ?Z>.G{Wm@
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 2HXKz7da
⑧ 环境湿度⼤ 4Umsc>yfK
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 J\3} il
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问题。 / \rq$W_
改善对策： /y)"j#-eW
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 Y/H^*1
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 vo(NB
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㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ 8/"|VE DOr
燥、⼲净。 w y {>gvqK
㈣改善环境 P/Kit?kngS
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 R*Z]
㈥改善洗净、擦拭效果。 m > (h_j
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） \oX8/-0 f
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） Wk\@n+Q {]
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 {~fCqP.2
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
