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    [求助]玻璃镀膜后膜内起白雾,跪求大神们讨论产生原因 [复制链接]

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    只看该作者 20楼 发表于: 2018-08-25
    ①DOME温度过高,可以尝试降低温度。 iC]}M  
    ②预清洁功率过大或时间过长,造成基板表面粗糙度增大引起发雾。 ;`+,gVrp  
    ③H4和MGF2镀增透膜的话,可以温度设定在300℃左右。
    离线dcfcwdx
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    只看该作者 21楼 发表于: 2018-08-30
    回 ouyuu 的帖子
    ouyuu:没人觉得是散射吗? ObCwWj^qO  
    问题还在结晶上,试着调整一下镀膜温度和速率,还有充氧。 mf3G$=[  
    其实有离子源会更好些。 (2017-08-21 17:22)  "_`~9qDy  
    bchhokH   
    温度、速率还有充氧具体要像哪个方向调节呢,比如说冲多点氧还是少点
    离线ouyuu
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    只看该作者 22楼 发表于: 2018-09-05
    回 dcfcwdx 的帖子
    dcfcwdx:温度、速率还有充氧具体要像哪个方向调节呢,比如说冲多点氧还是少点 (2018-08-30 13:27)   lG{J  
    Rpr# ,|  
    这个只有自己慢慢试。改变条件可以改变结晶大小,但是哪个更好要自己试的。
    离线dede
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    只看该作者 23楼 发表于: 2019-10-14
    问题弄好了吗?
    离线opticsrain
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    只看该作者 24楼 发表于: 2019-10-25
    起雾有时候不一定是膜的问题。玻璃基片洗不净的情况下也有可能导致起雾,玻璃认真清洁或者用手擦拭后镀膜试一下。
    离线jakzhou
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    只看该作者 25楼 发表于: 2019-11-17
    镀膜温度过高,氧化钛高温下结晶发雾!
    离线旋律
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    只看该作者 26楼 发表于: 2020-11-17
    发蒙或者发雾可以从工艺和膜料入手排查原因,如果只镀氟化镁和H4的话,问题应该在H4上面
    离线tony肖
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    只看该作者 27楼 发表于: 2021-06-29
    会不会温度过高
    离线tang714
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    只看该作者 28楼 发表于: 2021-08-17
    还有你的基底材料是什么?加了离子源没有?
    离线comebackz
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    只看该作者 29楼 发表于: 2022-11-02
    膜外⽩雾 0(kp>%mbB  
    现象:镀膜完成后,表⾯有⼀些淡淡的⽩雾,⽤丙酮或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。 7%'<}u  
    ⽤氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻,(⼜称:可擦拭压克) $X?V_K;9/  
    分析:膜外⽩雾的成因较为复杂,可能的成因有: |j+~Td3})&  
    ① 膜结构问题:外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙; mvw:E_  
    ② 蒸发⾓过⼤,膜结构粗糙。 d?K8Ygz  
    ③ 温差:镜⽚出罩时内外温差过⼤ NWvxbv  
    ④ 潮⽓;镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ 9p.>L8  
    ⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 OTm`i>rB  
    ⑥ 蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀 n*1UNQp@]O  
    ⑦ 膜与膜之间的应⼒ S]N4o'K}q  
    改善思路:膜外⽩雾成因很多,但各有些特征,尽量对症下药。主要思路,⼀是把膜做的致密 71%u|k8|  
    光滑些不容易吸附,⼆是改善环境减少吸附的对象。 /[s$A?  
    改善对策: 87Kx7CKF"  
    ㈠ 改善膜系,外层加⼆氧化硅,使膜表⾯光滑,不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境(⼲燥、清 '3Ri/V,  
    洁) kr?| >6?  
    ㈡ 降低出罩时的镜⽚温度(延长在真空室的冷却时间)减少温差、降低应⼒。 Nm~#$orI|  
    ㈢ 改善充氧(加⼤),改善膜结构。 r$7rYxFR  
    ㈣ 适当降低蒸发速率,改善柱状结构 U]acm\^Z  
    ㈤ 离⼦辅助镀膜,改善膜结构 l0_V-|x  
    ㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀(其功能是及时带⾛⽔汽) j;3o9!.s:  
    ㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 >O _  
    ㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 (tgaH,G  
    ㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 V*aTDU%-.  
    膜内⽩雾 NO$Nl/XM  
    ⽩雾形成在膜内,⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 IFY !3^;zO  
    可能的成因: :q=OW1^k^  
    ① 基⽚脏,附着前⼯程的残留物 5f5ZfK3<i  
    ② 镜⽚表⾯腐蚀污染 >W<5$.G  
    ③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 mm8O  
    ④ 氧化物充氧不够。 }dz(DP d  
    ⑤ 基⽚进罩前(洗净后)受潮⽓污染 <fJ\AP5  
    ⑥ 洗净或擦拭不良,洗净痕迹、擦拭痕迹 #5D+XBT  
    ⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 =FnZkJ  
    ⑧ 环境湿度⼤ xpM~* Gpm  
    改善思路:基⽚本⾝的问题可能是主要的,镀膜是尽量弥补,镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 f"Iyo:Wt  
    问题。 cF2/}m]  
    改善对策: H/$q]i*#K  
    ㈠改进膜系,第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 f/y K|[g~  
    ㈡尽量减少真空室开门时间,罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 bhmjH(.t  
    ㈢真空室在更换护板、清洁后,最好能空罩抽真空烘烤⼀下,更换的护板等真空室部件必须⼲ `Nn?G  
    燥、⼲净。 7r>W r#  
    ㈣改善环境 W}RR_Gu  
    ㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚,免受污染。 3fPv71NVtt  
    ㈥改善洗净、擦拭效果。 zMKL: Um"  
    ㈦改善膜匹配(考虑第⼀层⽤Al2O3) ~'3% Qr  
    ㈧改善膜充氧和蒸发速率(降低) `2PT 8UM  
    ㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 r . ^&%D  
    ㈩抛光加⼯完成的光⾯,必须⽴即清洁⼲净,不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。