膜外⽩雾 Yf,U2A\
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 _n_|skG
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） VSa#X |z
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： @,v.Y6Ge
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； m]:|j[!*M
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 Ycve[31BDd
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ gS4@3BOw&.
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ Ucz`^}+
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 2q.J1:lW
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 bIahjxd :
⑦ 膜与膜之间的应⼒ RI
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改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 h48
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光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 ey>V^F j
改善对策： (Y%pk76d
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 8DP] C9
洁） Kr'5iFK7
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 7 LY4q/
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 BliL1"".
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 DkGC +Dw
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 BiUbg6T.G
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） 7 xm>+(
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 xA>O4S D
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 7R`:^}'>
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 8n^v,s >
膜内⽩雾 fB3W} dr
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 qkN{l88
可能的成因： oO8V0VE\
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 L<**J\=7M
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 X!%CYmIRb
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 [vs5e3B)
④ 氧化物充氧不够。 Wp<4F 6C$@
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 Ufnjh Hu
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 2'zYrdem
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 =N%;HfUD
⑧ 环境湿度⼤ ]N+(SU
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 E/</
问题。 * u4h+ P
改善对策： =)GhrWeVi4
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 ], HF) 21
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 pIy+3 &\e;
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ Hki
燥、⼲净。 f H/J8<
㈣改善环境 9$pQ|e0tJ
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 S0 AaJty
㈥改善洗净、擦拭效果。 ?UlAwxn
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） [80L|?, *
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） B~oc.s g
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 7]w]i5
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
