膜外⽩雾 r"Hbr Qn
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 7]<F>97
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） uIVTs9\
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： ?=pZmvQg
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； yg-L^`t+B5
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 h^.tom g8
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ ^Yg|P&e(;
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ a:(: :m
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 _E x*%Qf.
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀
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⑦ 膜与膜之间的应⼒ dA_V:HP
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 ILu0J`;}
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 }uV?
改善对策： K%aPl~e
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 7Y_fF1-wY
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㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 }
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㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 o[Wagg.%
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 N4Fy8qU;
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 6B!j(R
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） Bp=oTC G
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 TCEXa?,L
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 {8*d;[X50
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 5pKvNLy.t
膜内⽩雾 {{4p {
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 .5#t B*H
可能的成因： `lV
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 f2SU 5e2
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 U||w6:W5
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 c],frhmyd
④ 氧化物充氧不够。 AD!<%h:
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 w50Bq&/jX
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 &ttv4BC^r
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 SCt=OdP=
⑧ 环境湿度⼤ 95gsv\2
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 &Curvc1fm
问题。 zvK5Zx l
改善对策： t}c}@i_c
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 U_
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㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 3A}nNHpN
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ ou,=MpXx*
燥、⼲净。 4 HJZ^bq9|
㈣改善环境 5E oWyy
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 0:B^
㈥改善洗净、擦拭效果。 9Qs"X7 iH
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） Uf2v$Jl+Yh
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） lu@>?,<
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 mB| mt+
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
