膜外⽩雾 p F4Z4?W
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 __2<v?\
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） 7jgj;%
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： kQ lU.J>^
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； An$2='=/
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 >WIc" y.
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ i=cST8!8N
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ ])o{!}QUl\
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 nuXL{ tg6
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 |Ha#2pt{bc
⑦ 膜与膜之间的应⼒ b:D92pH
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 >
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光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 >m>F {v
改善对策： z@i4
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 d<6F'F^w.7
洁） mAtqF
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㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 D2?H"PH
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 @Fb1D"!
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 O=A2QykV(
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 .VCY|KZ
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） _r*\ BM8y
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 Y @p<f5[c
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 M'PZ{6;
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 Lr:Qc#2
膜内⽩雾 y
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⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 ch8a
可能的成因： A^>@6d $2
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 MLu!8dgI
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 kFv*>>X`
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 ('tXv"fT
④ 氧化物充氧不够。 k*\Bl4g
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 -GA F>
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 6
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⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 Y%.o
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⑧ 环境湿度⼤ 9%"7~YCDas
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 #$I@V4O;#
问题。 j# 1G?MF
改善对策： "XR=P>
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㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 X0VS a{
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 %.Ma_4o
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㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ #h5lz%2g
燥、⼲净。 r3l1 I}
㈣改善环境 q 84*5-
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 {>
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㈥改善洗净、擦拭效果。 "bm| p/A
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） :&IHdf0+
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） C#kE{Qw10r
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 ]YgR
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
