膜外⽩雾 z uJ@@\75
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 H2yPVJ\Y)"
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） ?JR ?PW8
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： /'bX}H(dq
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； l(8@?t ^;
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 *EFuK8 ;
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ Y"TrF(C
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ }eSrJgF4M
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 <9S 5
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 x}O J~Yk]
⑦ 膜与膜之间的应⼒ JHJ]BMm
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 q<cxmo0S
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 t V2o9!N4
改善对策： oKPG0iM:
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 )k81
洁） A H^ud*3F
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 4p>,
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 cvjZ$Fcc%(
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 k8,s<m
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 Wp^ A.
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） _:KeSs kuO
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 9 6%N
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 VL$?vI'
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 )gk
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膜内⽩雾 HE+ D]7^
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 'wo}1^V
可能的成因： `_OB_F
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 Q>WnSm5R
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 dA0o{[o=
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 dlwOmO'Bm)
④ 氧化物充氧不够。 Xv xrz{
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 w NMA)S
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 4H`B]Zt7
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 zG<>-?q~'
⑧ 环境湿度⼤ m[hHaX
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 ,8stEp9~h]
问题。 Wli!s~c5Fo
改善对策： $v=(` =
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 '2SZ]
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 .G >~xm0
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ "P$')u wE
燥、⼲净。 ',I$`h
㈣改善环境 b[MKo7
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 0RN 7hpf&`
㈥改善洗净、擦拭效果。 Kn} Y7B{
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） yjM!M|
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） f 2k~(@!h
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 ,t39~ w
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
