膜外⽩雾 G-d7}Uz ?
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 "'U^8NA2
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） i g( O$y
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： 3`bQ0-D;
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； *?FVLE
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 p F{jIXu
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ -G(me"Cu
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ O] @E8<?^
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 <Ht"t]u*Bn
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 vGkem J^/
⑦ 膜与膜之间的应⼒ =W~7fs
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 I RN,=
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 Pk;\^DRC
改善对策： DpRMXo[
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 C %z )D1-
洁） 2][9Wp
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 Gy q 6?
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 \Y4(+t=4
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 dKzG,/1W[m
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 5T x4u%g
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） .C'\U[A{
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 "^#O7.oVi+
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 cibl j?"Wi
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。
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膜内⽩雾 , Y:oTo=~
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 sY;h~a0n
可能的成因：
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① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 &<t%u[3
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 t]h_w7!U
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 I~&*^q6 |
④ 氧化物充氧不够。 K(+=V)'Dz
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 A (2 0+
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 9^a |yyzL
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 `=(<!nXJx
⑧ 环境湿度⼤ 1aAOT6h
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 =t,oj6P~
问题。 W`[VLi}fe
改善对策： 2u]G]: ml
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 .RroO_H
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 f) Qln[/
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ o<nM-"yWb
燥、⼲净。 :Qa*-)rs
㈣改善环境 =Zj
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㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 QRju9x
㈥改善洗净、擦拭效果。 %r^tZ ;; l
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） hkPMu@BI
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） nE]rPRU}[
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 HhynU/36
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
