膜外⽩雾 Ad$n4Z e
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 gRJfX %*F
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） nZy X_J,Vd
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： T ]T ;$
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； c+ dg_*^
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 {HOy_Fiih
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ x3p ND
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ ^pnG0( 9
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 N_Akmh0D
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 27F~(!n
⑦ 膜与膜之间的应⼒ :-`7Q\c }
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 *e#<n_%R
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 S8, Z;y
改善对策： o*g|m.SjL
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 B;K`q
洁） ;z~n.0'
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 [&?8,Q(
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 sj?3M@l95W
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 V D S23Bo
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 *Vw\'%p*
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） k0-G$|QgIp
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 7OCwG~_^
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 $,>@o=)_
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 ,m<H-gwa
膜内⽩雾 SLfFqc+n0
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。
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可能的成因： X[gn+6WB%
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 m o{MR:>)
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 <"D=6jqZ
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 a VL=K
④ 氧化物充氧不够。 !2UOC P
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 R"MRnr_4K
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 vIl+#9L0
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 7R#+Le )
⑧ 环境湿度⼤ Cxod[$8
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 ;Vik5)D2D
问题。 .\0isO
改善对策： >odbOi+X
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 %1 vsN-O}8
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 A\_ |un%
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ 'J&f%kx"
燥、⼲净。 XdLCbY
㈣改善环境 }]n$ %g (
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 @~c 6qh
㈥改善洗净、擦拭效果。 -<v~snq'
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） jcNT<}k
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㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） zA+~7;7E
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 Ghl'nqPlm
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
