膜外⽩雾 !~Gx@Ro
现象:镀膜完成后,表⾯有⼀些淡淡的⽩雾,⽤丙酮或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。 O=~8+sa
⽤氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻,(⼜称:可擦拭压克) #S)]`YW
分析:膜外⽩雾的成因较为复杂,可能的成因有: @ x_.
① 膜结构问题:外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙; B~+3<# B
② 蒸发⾓过⼤,膜结构粗糙。 =lT~
③ 温差:镜⽚出罩时内外温差过⼤ Oxo?\
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④ 潮⽓;镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ ~QgyhJM_h=
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 GKT2x '(e
⑥ 蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀 7ss Y*1b
⑦ 膜与膜之间的应⼒ i[_(0P+Da
改善思路:膜外⽩雾成因很多,但各有些特征,尽量对症下药。主要思路,⼀是把膜做的致密 ,)/gy)~#
光滑些不容易吸附,⼆是改善环境减少吸附的对象。 jr[(g:L
改善对策: 1P4cBw%
㈠ 改善膜系,外层加⼆氧化硅,使膜表⾯光滑,不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境(⼲燥、清 Z/-9G
洁) rQmDpoy =
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度(延长在真空室的冷却时间)减少温差、降低应⼒。 jz,Mm,Gi
㈢ 改善充氧(加⼤),改善膜结构。 =1Nz*
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㈣ 适当降低蒸发速率,改善柱状结构 rPhx^
QKH2
㈤ 离⼦辅助镀膜,改善膜结构 p]h;M
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀(其功能是及时带⾛⽔汽) ;iT@41)7
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 8T6LD
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 Vw-,G7v&E
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 4'3do>!
膜内⽩雾 F.{{gpI
⽩雾形成在膜内,⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 :rxS&5
可能的成因: ` 9;0Y
① 基⽚脏,附着前⼯程的残留物 {1?94rz
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 kN7JZ12
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 UWU(6J|Fk
④ 氧化物充氧不够。 KLb"_1z
⑤ 基⽚进罩前(洗净后)受潮⽓污染 :j(e+A1@
⑥ 洗净或擦拭不良,洗净痕迹、擦拭痕迹 a8 X}r.
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 o;'E("!<Z
⑧ 环境湿度⼤ MoAie|MKe
改善思路:基⽚本⾝的问题可能是主要的,镀膜是尽量弥补,镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 /{1s U}k-
问题。 ga?:k,xv
改善对策: Ov$>CA
㈠改进膜系,第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 M3XG s|gw
㈡尽量减少真空室开门时间,罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 Z2n
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㈢真空室在更换护板、清洁后,最好能空罩抽真空烘烤⼀下,更换的护板等真空室部件必须⼲ s!k7Wwj
燥、⼲净。 ))T@U?r
㈣改善环境 ]MD,{T9l\>
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚,免受污染。 UY>[
㈥改善洗净、擦拭效果。 k1lo{jw`
㈦改善膜匹配(考虑第⼀层⽤Al2O3) 7gWT[
㈧改善膜充氧和蒸发速率(降低) bG0
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㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 sNaLz
㈩抛光加⼯完成的光⾯,必须⽴即清洁⼲净,不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。