膜外⽩雾 pz #oRuujY
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 'I\bz;VT
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） d# Ql>PrY
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： q >o1 kTI
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； Fdzs Wm
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 mp>,TOi~s7
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ 6# ,2
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ dI{ )^
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 $x#Y\dpS
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 Wyw/imr
⑦ 膜与膜之间的应⼒ Mp}aJzmkB;
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 68W&qzw.[r
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 +{4ziqYj
改善对策： .Hc ]?R ]
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 ?%{ v1(
洁） ?tV $o,11
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 #-Ehg4W
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 Yfs60f
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 m ['UV 2
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 '%l<33*
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） DO8@/W(
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㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 $0+AR)
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 (O"Wa
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 /*B-y$WQk
膜内⽩雾 -5\hZ!!J2
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 'UUIY$V[
可能的成因： "+~La{ POc
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 Xg_M{t
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 T:q!>"5
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。
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④ 氧化物充氧不够。 ;r B2Q H]
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 7%b?[}y4
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 XFUl V;ek
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 8rx?mX,}
⑧ 环境湿度⼤ s["8QCd"r
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 U\*}}
问题。 B>AmH%f/
改善对策： x9hkE!{8
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 dmgoVF_qR
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 ]N!8U_U3
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ J-P>
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燥、⼲净。 /xUTm=w7u
㈣改善环境 A9`& Wnw?
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 S|CN)8Jsi
㈥改善洗净、擦拭效果。 f!|7j}3
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） ;G |5kvE>
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） U(4>e!
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 (J
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㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
