膜外⽩雾 6i-G{) =l
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 +Eh.PWEe
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） w$/l q~zU
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： C 2nm SXV
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； FJDC^@ Ne
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 pJvPEKN
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ r@}`Sw]@
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ ij!d-eM/b
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 _\KFMe= PV
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 ` @
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⑦ 膜与膜之间的应⼒ Ij7P -5=<
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 g kO^J{_@q
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 cF w-JM<
改善对策：
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㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 A[uE#T ^
洁） ':fp|m)M
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 r u@#s2
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 ( ne[a2%>
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 $/s"It
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 CyR` &u
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） ?/OF=C#
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 5PO_qr= Hx
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 B;ek a[xU
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 )`rD] 0ua;
膜内⽩雾 F| eWHw? t
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 TL2E |@k1]
可能的成因：
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① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 !nSa4U,$w<
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 n !4\w>h
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 {6H[[7i
④ 氧化物充氧不够。 >Xk42zvqn
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 sko7,&
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 0WC\u xT7
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重
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⑧ 环境湿度⼤ v1 8 <~
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 ?4%H(k5A
问题。 a~7D 4G
改善对策：
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㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 u:f ]|Q
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 `Y:]& w
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ i"}z9Ae~.
燥、⼲净。 04-_ K
㈣改善环境 KM w V;r
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 BQ0?B*yqd
㈥改善洗净、擦拭效果。 ?9() ya-TE
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） rS_G;}Zr
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） 3W7^,ir
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 $_"u2"p
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
