膜外⽩雾 $yu?.b
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现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 Eu,`7iQ?(
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） p|[B
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分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： :50b8
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； yI3 kvh
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 GF$ `BGW
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ +TJ EG?o
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ :/N +;- 18
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 3EK9,:<Cf
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 "%6/a7S
⑦ 膜与膜之间的应⼒ ST dNM\+
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 o:p
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光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 /4irAG% Oj
改善对策： |E)aT#$f'
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 {38bv. 3'
洁） s a&) #Z:
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 . iwZ*b{
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 ej( ikj~j
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 J'T=q/
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 DAO]uh{6
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） 'T8 W!&$
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 #,NvO!j<4
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 bPbb\|u0d
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 +.yT/y "
膜内⽩雾 vbG]mMJ
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 )> a B
可能的成因： nH-V{=**
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 vVxD!EL
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 H17-/|-;0!
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 * ?Jz2[B
④ 氧化物充氧不够。 /)3Lnn{W
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 b #fTAC;<
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 ;2xO`[#
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 j+IrqPK C^
⑧ 环境湿度⼤ [<c&|tfl
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 +0l`5."d
问题。 !wz/c M;
改善对策： K`-!uZW:B7
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 ~@W*r5/
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 aHzHvl
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ /RnT Q4
燥、⼲净。 yYZxLJ='
㈣改善环境 OQ&'Dt i
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 \}0-^(9zd
㈥改善洗净、擦拭效果。 \;X+ X,M
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） 5 `/< v^
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） DGESba\2+
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 |I;$M;'r&
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
