膜外⽩雾 |[r7B*fw
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 RU#}!Kq
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） .[eC w
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： Q(A$ >A
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； IkmEctAU
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 @=z.^I30
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ h+Lpj^<2a
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ 8wO4;
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 q%M~gp1
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 P )oNNY6}
⑦ 膜与膜之间的应⼒ 5'DY)s-K
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 Uufig )6
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 2\& 3x} @
改善对策： D 9 ;pjY
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 PI$i_3N
洁） QSzht$ 8
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 h$sOJs~6h
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 2oc18#iG (
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 )sQ/$g J
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 Nk7=[y #z
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） z80(+ `
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 C}uzzG6s
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 y(iq
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 ,j{tGj_
膜内⽩雾 R<I#.
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⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 DC_uh
可能的成因： `, ]ui*
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 +VQD'
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 Y|wjt\M
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 z{
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④ 氧化物充氧不够。 'y>Y */
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染
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⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 Uu*iL< `
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 [%yj'
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⑧ 环境湿度⼤ [;yH.wn#5
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 _ U LzA
问题。 `<~=6H
改善对策： 9fs-|E[ 5
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 2[ =3-1c
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 !#%>,X#+
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ 7.
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燥、⼲净。 Wj!+
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㈣改善环境 NCT:! &
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 a {x3FQ
㈥改善洗净、擦拭效果。 6~jAh@-
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） OXp N8D h5
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） IIT [^_g
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 \K" 7U
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
