膜外⽩雾 !S~)U{SSK
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 H~*N:$C
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） ^a qQw u
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： gpq ,rOIK
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； 1PVZGZxAgv
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 x~k3kj
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ Ztk%uc8_lM
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ X$<pt,}%
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 oW
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⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 tOXyle~ C
⑦ 膜与膜之间的应⼒ :TVo2Zm[@
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 Qfp4}a=
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 z<Z0/a2'1
改善对策： wsdZ wik
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 ZXLAX9|
洁） '7 ' 73
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 dkC_Sh{
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 H-t$A, [
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 }<kl3{)
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 75>%!mhM
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） em7L `,
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 ^WU[ +H ;
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 M*'8$|Z
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 Dh m ;K$T
膜内⽩雾 uv5NqL&
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 5xT, O
可能的成因： .NWsr*Tel
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 [-`s`g-
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 ,1~B7Z d
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 TlO=dLR7d
④ 氧化物充氧不够。 37n 2 #E
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 nUs=PD3 )
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 m, +E5^
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 J<NpA(@^
⑧ 环境湿度⼤ E*R-Dno_F
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 Vh01 y f
问题。 C-_u`|jQ
改善对策： j*?E~M.'1K
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 Li8/GoJW-T
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 9k4z__K e
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ %/)z!}{
燥、⼲净。 a^G>|+8
㈣改善环境 5T"h7^}e
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 Q?.9BM1V
㈥改善洗净、擦拭效果。 E690 '\)31
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） {OQ)Np!
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） }ub>4N[
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 8xj_)=(sV!
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
