[求助]玻璃镀膜后膜内起白雾，跪求大神们讨论产生原因 [复制链接]

①DOME温度过高，可以尝试降低温度。 8(_g]u#B;  
②预清洁功率过大或时间过长，造成基板表面粗糙度增大引起发雾。 HToN+z%w3H  
③H4和MGF2镀增透膜的话，可以温度设定在300℃左右。

ouyuu:没人觉得是散射吗？ N,,2VSUr  
问题还在结晶上，试着调整一下镀膜温度和速率，还有充氧。 1p<?S}zg@  
其实有离子源会更好些。 (2017-08-21 17:22)  vm^# aoDB  

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温度、速率还有充氧具体要像哪个方向调节呢，比如说冲多点氧还是少点

dcfcwdx:温度、速率还有充氧具体要像哪个方向调节呢，比如说冲多点氧还是少点 (2018-08-30 13:27)  --FtFo  

C$gLi8|m  
这个只有自己慢慢试。改变条件可以改变结晶大小，但是哪个更好要自己试的。

问题弄好了吗？

起雾有时候不一定是膜的问题。玻璃基片洗不净的情况下也有可能导致起雾，玻璃认真清洁或者用手擦拭后镀膜试一下。

镀膜温度过高，氧化钛高温下结晶发雾！

发蒙或者发雾可以从工艺和膜料入手排查原因，如果只镀氟化镁和H4的话，问题应该在H4上面

会不会温度过高

还有你的基底材料是什么？加了离子源没有？

膜外⽩雾 i1C'  
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 \Y$NGB=2[  
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） )FLp
WE"e-  
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： dmO|PswW  
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； ZHJzh\?  
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 WyETg!b[  
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ qDW/8b\^  
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ }1wuH  
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 P.Bk-#}$  
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 )LG/n  
⑦ 膜与膜之间的应⼒ XQA2uR4h  
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 ",m5}mk:4  
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 ghl9gFFj  
改善对策： %O${EN  
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 zl5S)/A  
洁） pifgt  
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 mN`a]L'  
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 hGeRM4zVZZ  
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 $&!U&uMt  
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 eMwf'*#  
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） 'Vd>"ti  
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 m78PQx H  
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 .\ZxwD|  
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 LFC k
6 R  
膜内⽩雾 z$NLFJvy_-  
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 va0 a4s1O  
可能的成因： *))
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① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 G r)+O  
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 kAoai|m@R  
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 ~U|te_l  
④ 氧化物充氧不够。 H;6V  
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 ~>n<b1}W  
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 '};Xb|msU  
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 5eYCnc9  
⑧ 环境湿度⼤ kL-+V)Kl  
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 @."R9s  
问题。 R+\5hI@ >i  
改善对策： A{QS+fa/  
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 R~i<*  
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 \3l;PY  
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ Vk"QcW
  
燥、⼲净。 VYBl0!t  
㈣改善环境 = U5)m  
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。
"7g: u-  
㈥改善洗净、擦拭效果。 b+3pu\w`  
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） 7j Q`i;L}Y  
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） Z8x(_ft5  
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 .
XmD[=  
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。