膜外⽩雾 Bw8&Amxx :
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 OE_> K w7q
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） [XDr-5Dm
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： 'qnnZE
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； n ;0x\Q|S
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 X) k+BJ
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ iVqa0Gl+}
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ TP?HxO_C
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 t9+ME|
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 h;`]rK;g
⑦ 膜与膜之间的应⼒ t*cVDA&K
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 EE[JXoke
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 /6d :l>4
改善对策： 3m59EI-p
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 e+7x &-+
洁） [m{uJ dj\
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 XY1b_uY
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 wC4:OJ[d
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 Fmux#}Z
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 PXJ`< XM
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） YMTB4|{
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 Cec o^Mw
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 _M9-n
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 1pHt 3Vc(G
膜内⽩雾 K_t! P
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 _$YT*o@0J
可能的成因： Q ^z&;%q1
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 bRb+3au_x
② 镜⽚表⾯腐蚀污染
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③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 ~Y /55uC
④ 氧化物充氧不够。 E#A}J:
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 ^lCQHz
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 %?~`'vYoi
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 r%^J3
⑧ 环境湿度⼤ xBW{Wy h
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 p.J+~s4G
问题。 -)2sR>`A%
改善对策： XI* cu\7sy
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 35X4]
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㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 d JYQdo^X
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ gjnTG:}}}+
燥、⼲净。 BO 3%p
㈣改善环境 ?Pw(
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 bcCCvV}6WZ
㈥改善洗净、擦拭效果。 Rr0@F`"R
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） Lm }J& ^>
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） m6D]
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 7) y9% -}
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
