膜外⽩雾 1jaK N*
现象:镀膜完成后,表⾯有⼀些淡淡的⽩雾,⽤丙酮或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。 +*aC
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⽤氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻,(⼜称:可擦拭压克) |t~>Xs
分析:膜外⽩雾的成因较为复杂,可能的成因有: oa`7ClzD
① 膜结构问题:外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙; Gi*_ &
② 蒸发⾓过⼤,膜结构粗糙。 \p]B8hLW
③ 温差:镜⽚出罩时内外温差过⼤
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④ 潮⽓;镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ JU)k+:\a
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 $I4Wl:(~}
⑥ 蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀 9n"MNedqH
⑦ 膜与膜之间的应⼒ *M$'dLn
改善思路:膜外⽩雾成因很多,但各有些特征,尽量对症下药。主要思路,⼀是把膜做的致密 5du xW>D
光滑些不容易吸附,⼆是改善环境减少吸附的对象。 .1_kRy2*.
改善对策: 0sB[]E|7[s
㈠ 改善膜系,外层加⼆氧化硅,使膜表⾯光滑,不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境(⼲燥、清 D_`NCnYG
洁) ~=|QPO(d
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度(延长在真空室的冷却时间)减少温差、降低应⼒。 t J&tNSjTi
㈢ 改善充氧(加⼤),改善膜结构。 Lu5X~6j"$
㈣ 适当降低蒸发速率,改善柱状结构 M5L /3qLh1
㈤ 离⼦辅助镀膜,改善膜结构 ^`Hb7A(
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀(其功能是及时带⾛⽔汽) 2IUd?i3~l
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 tf[)| /M
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 ,J:Ro N_:
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 t+{vbS0
膜内⽩雾 xV=Tmu6l
⽩雾形成在膜内,⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 ~R50-O
可能的成因: {<?8Y
① 基⽚脏,附着前⼯程的残留物 Ys&)5j-
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 'S:$4j
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 y*p02\)
④ 氧化物充氧不够。 1+YqdDqQ
⑤ 基⽚进罩前(洗净后)受潮⽓污染 0sTR`Xk
⑥ 洗净或擦拭不良,洗净痕迹、擦拭痕迹 2(m#WK7>F
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 aPQxpK?
⑧ 环境湿度⼤ NFR>[L V
改善思路:基⽚本⾝的问题可能是主要的,镀膜是尽量弥补,镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 P%N)]b<c*
问题。 $g/h=w@
改善对策: sV\K[4HG
㈠改进膜系,第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 |68k9rq
㈡尽量减少真空室开门时间,罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 <XN=v!2;
㈢真空室在更换护板、清洁后,最好能空罩抽真空烘烤⼀下,更换的护板等真空室部件必须⼲ FYK`.>L28
燥、⼲净。 /'b7q y
㈣改善环境 FZLx.3k4
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚,免受污染。 UM<s#t`\3
㈥改善洗净、擦拭效果。 U]@?[+I0]
㈦改善膜匹配(考虑第⼀层⽤Al2O3) [^^ Pl:+
㈧改善膜充氧和蒸发速率(降低) TwI'XMO;A
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 o?6m/Klw6
㈩抛光加⼯完成的光⾯,必须⽴即清洁⼲净,不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。