低维半导体材料中的光生载流子高效抽取现象
半导体材料中的光电转换过程是光电探测器和太阳能器件的基础,也一直是半导体材料和物理领域的研究热点。传统半导体物理理论认为:在低维材料中,光生载流子在形成后会弛豫到基态,由于受到量子限制,光生载流子难于逃离限制势垒形成有效的光电流。因此,将低维半导体材料应用于光伏和探测器领域一直难以成功。 近期,中国科学院物理研究所E03组的博士生王文奇、吴海燕、杨浩军以及王禄、马紫光、江洋副研究员在陈弘研究员的指导下,与刘伍明研究员课题组合作,采用共振激发光致发光谱技术(即采用介于低维材料和其势垒的禁带宽带的激光能量,只选择性激发低维材料中的电子和空穴,而不在势垒中形成光生载流子),在InGaN量子阱,InGaAs量子阱,InAs量子点等多个材料体系中均观察到了在PN结作用下的载流子高效逃逸现象。 如图1所示,在无PN结的NIN结构中(非掺杂I区由10个周期的InAs/GaAs量子点结构组成),即使存在较高的外加偏压载流子仍不能逃逸限制势垒,只能通过辐射复合的方式发光。而在另一个测试样品中,仅将NIN结构中的一个N型掺杂区改变为P型掺杂区,形成了含有PN结的PIN结构。在同样的共振激发光致发光谱测试实验中,在零偏压短路情况下,实验观察到超过85%的载流子不再参与发光。与此同时,电路中观察到了明显的光电流产生。通过在电路中串联一可变电阻调整电路电流发现,电路中电流与量子点发光积分强度呈现线性反比关系,直接证实了量子点中形成的光生载流子形成了光电流。此外,通过对样品光电转换效率的计算,推算出该样品中材料吸收系数存在数量级程度的增加。 图1. (a) n-i-n结构样品在开路和0.7V反向偏压条件下的共振激发光谱;(b) p-i-n结构的样品在开路和0V反向偏压条件下的共振激发光谱;(c)量子点发光强度与电路电流的关系曲线 上述现象不能用经典热电子发射、和隧穿现象及中间能带理论解释。项目组提出了一个新的物理模型,如图2所示:没有pn结的低维材料吸收光以后弛豫到基态,不能在电场的作用下逃逸低维材料,而有pn结的低维材料吸收光以后直接逃逸低维材料而不弛豫到基态。 图2.(a)传统低维半导体光子吸收和载流子输运过程 (b)实验中观察到的低维半导体光子吸收和载流子传输过程 |




