对于高平行度透/反射类元件,在布儒斯特角或者正入射情况下检测时会出现因为后表面多次反射而产生的自干涉条纹问题,形成多组自干涉条纹,测试干涉条纹和自干涉条纹相互叠加。在测试的干涉条纹中带有很明显的自干涉条纹,造成最终的检测波面出现数据的丢失,会严重影响到面形的计算。 '(>N
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为了防止检测时候自干涉条纹的产生,一般都在加工时候使光学元件前后两个面的楔角大于1′,这样就能防止后表面的多次反射产生的影响,但是对于一些特殊要求的光学元件,平行度要求都比较高(优于20″或更小),这就要求通过合适的检测方法来解决自干涉条纹的问题。 lV="IP^7
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