本例以正弦光栅为例介绍光栅面并非理想情况时的模拟。因为实际加工原因，光栅面并不一定是我们期望的理想光栅面。对于正弦光栅，变很可能不是理想正弦型，而是在正弦基础上出现随机的起伏，这会对衍射情形带来什么影响？我们把这个随机的粗糙面叠加在光栅面上来模拟，引入这个糙面时可以通过特征尺寸和调制深度来表达。特征尺寸与横向的光栅周期相对应，表达起伏快慢，特征尺寸越小，起伏越剧烈，越大，则越平缓。而调制深度则与纵向的光栅调制深度对应，表达起伏的幅度。并使用parameter run来考察衍射效率随特征尺寸和调制深度的变化情况。在特征尺寸变化时，会导致衍射级次的变化，在某个特征尺寸时，零级能量会降到最低，但仍然是一个较大的数值。然而衍射情形随调制深度的变化则很灵敏，在调制深度为0时，与理想的正弦光栅衍射情况接近，能量主要分布在零级和±1级上，高阶衍射级次能量很小。随着调制深度的增加，零级能量会被衍射至高级次，从而零级能量降低，±1级则能量增加，更高级次能量也相应增加。
