[讨论]光控镀膜时，光控片及监控波长的使用方法 [复制链接]

我们一般是两层（我是新柯隆的） o\><e1P   L>B0%TP^  
先镀高折射率，再镀低折射率。 wKpb%3   ;(V=disU/  
另外，监控波长的选择也很有讲究， - q(a~Ge   ;.Kzc3yz}  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。 ShlTMTgS   2.6,c$2tB  
T.')XKP)1N   gI]Vyg<{d  
如果第一层镀低折射率，会影响准确度。

各位大神 ]SQ_*$`  
宽波段时（近红外）监控波长如何设定

长江:我们一般是两层,光驰机器，先高折射 率，后低折射率 (2016-09-10 20:24)  aa$+(  

yM>c**9  
同是光驰机，也是监控两层

我们一般控制一个光控点控制两层，高折射率一层，低折射率一层 C]{43  

回头比例一般控制在5~95%

ouyuu:我们一般是两层（我是新柯隆的） t2uX+1F  
先镀高折射率，再镀低折射率。 Q}C)az  
另外，监控波长的选择也很有讲究， 3copJS  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。
....... (2014-04-04 15:06)  jgNdcP  

Cdg/wRje  
为什么第一层镀折射率会影响精准度?

第一层低折射率，常常为二氧化硅，因为其折射率跟监控片接近，光量变化不大，光控不容易判断准确。 BQTZt'p  
第一层用二氧化硅还是很普遍的，也有优点。 X?whyD)vE@  

dcfcwdx:为什么第一层镀折射率会影响精准度?[表情] (2018-09-02 12:00)  ^O6eFD U  

5]f6YlJZ  
膜林的专家已经讲的很清楚了。 b I"+b\K  
因为光控片的折射率和SIO2接近，直接在光控片上镀SIO2光量变化很小， c,j[ix  
放大后的光控波形上能看到有很多毛刺，这会影响光控电脑判断PEAK和截止点的精确度。 &c[ISc>N{  
先镀高折再镀低折则能避免这种情况。 k%D|17I  
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我司是用光馳 0fJz[;dV>n  
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一個監控點=控制兩層(高、低折射率) ;e)`Cv  
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高折射 start set 20 ；低折射 start set 80 KwHlpW*  
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選擇監控波長，我會選過一轉折點後的30%左右。 K+\2cf?bU  
5pU/X.lc  
另外注意的是 還要配合一開始校正光源的頻譜圖，避開一些不好的監控點

看评论有很大帮助，不然一头雾水