[讨论]光控镀膜时，光控片及监控波长的使用方法 [复制链接]

我们一般是两层（我是新柯隆的） o\><e1P   ^2d!*W|  
先镀高折射率，再镀低折射率。 wKpb%3   2 &/v]  
另外，监控波长的选择也很有讲究， - q(a~Ge   H|ozDA  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。 ShlTMTgS   f-6vLX\Vu  
T.')XKP)1N   Rtb :nJ8  
如果第一层镀低折射率，会影响准确度。

各位大神 u4z&!MT}  
宽波段时（近红外）监控波长如何设定

长江:我们一般是两层,光驰机器，先高折射 率，后低折射率 (2016-09-10 20:24)  h gJ[LU|>  

@{Gncy|  
同是光驰机，也是监控两层

我们一般控制一个光控点控制两层，高折射率一层，低折射率一层 1?Z4K/  

回头比例一般控制在5~95%

ouyuu:我们一般是两层（我是新柯隆的） Zcc9e03  
先镀高折射率，再镀低折射率。 x@Hc@R<!  
另外，监控波长的选择也很有讲究， 3@]SKfoo1  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。
....... (2014-04-04 15:06)  b4pm_Um  

-(bkr+N  
为什么第一层镀折射率会影响精准度?

第一层低折射率，常常为二氧化硅，因为其折射率跟监控片接近，光量变化不大，光控不容易判断准确。 @n": w2^B  
第一层用二氧化硅还是很普遍的，也有优点。 f1(+ bE%  

dcfcwdx:为什么第一层镀折射率会影响精准度?[表情] (2018-09-02 12:00)  Z7?~S
2{c  

y)@[Sl>  
膜林的专家已经讲的很清楚了。 Pw61_ZZ4B\  
因为光控片的折射率和SIO2接近，直接在光控片上镀SIO2光量变化很小， >M/V oV  
放大后的光控波形上能看到有很多毛刺，这会影响光控电脑判断PEAK和截止点的精确度。 cu/5$m?xx  
先镀高折再镀低折则能避免这种情况。 H?X|(r|+  
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我司是用光馳 rMhB9zB1  
L|}lccpI  
一個監控點=控制兩層(高、低折射率) I\$X/t +dH  
#odIEC/  
高折射 start set 20 ；低折射 start set 80 A*/HjTX  
 VN\W]jT  
選擇監控波長，我會選過一轉折點後的30%左右。 u;/ Vyu  
K$E3QVa  
另外注意的是 還要配合一開始校正光源的頻譜圖，避開一些不好的監控點

看评论有很大帮助，不然一头雾水