研究人员开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜
据物理学家组织网近日报道,美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料,可广泛应用并开辟潜在的重点研究领域。相关报告发表在近期出版的《纳米快报》杂志网络版上。 半导体纳米晶体的大小决定了它们的电子和光学性质。但想通过控制纳米晶体在表面上的布置,形成具有均匀结构的薄膜却十分困难。典型的纳米晶体薄膜一般都有能限制自身效用的裂缝,使得科研人员无法测量这些材料的基本特性。 此次制成的无缺陷薄膜的导电率约为传统方法制成的有裂缝薄膜的180倍。科学家称,这一制造方法还能应用于硅表面,制成30纳米宽的薄膜。其诀窍在于使薄膜结构变得均匀,紧贴在二氧化硅基座上。这能通过在纳米晶体层沉积于硅表面之前,将稀薄的聚合物层覆盖在表面上实现。据推测,纳米晶体表面上细小的有机分子亦能帮助它们与聚合物层相结合。 |




