谱分析方法作为一种重要的分析手段,在科研、生产、质控等方面都发挥着极大的作用。无论是穿透吸收光谱,还是荧光光谱,拉曼光谱,获得单波长辐射是不可缺少的手段。由于现代单色仪可具有很宽的光谱范围(UV-IR),高光谱分辨率(0.001nm),自动波长扫描,完整电脑控制功能,极易和其它周边设备配合为高性能自动测试系统,使用电脑自动扫描多光栅光谱仪已成为光谱研究的首选。 "WdGY*r
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在光谱学应用中,获得单波长辐射是不可缺少的手段。除了用单色光源(如光谱灯、激光器、发光二极管)、颜色玻璃和干涉滤光片外,大都使用扫描选择波长的单色仪。尤其是当前更多地应用扫描光栅单色仪,在连续的宽波长范围(白光)选出窄光谱(单色或单波长)辐射。 4_TxFulX.
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当一束复合光线进入光谱仪的入射狭缝,首先由光学准直镜准直成平行光,再通过衍射光栅色散为分开的波长(颜色)。利用不同波长离开光栅的角度不同,由聚焦反射镜再成像于出射狭缝。通过电脑控制可精确地改变出射波长。 O8(;=exA
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光栅基础 %*wJODtB|
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光栅作为重要的分光器件,他的选择与性能直接影响整个系统性能。为更好协助用户选择,在此做一简要介绍。
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光栅分为刻划光栅、复制光栅、全息光栅等。刻划光栅是用钻石刻刀在涂有金属的表面上机械刻划而成;复制光栅是用母光栅复制而成。典型刻划光栅和复制光栅的刻槽是三角形。全息光栅是由激光干涉条纹光刻而成。全息通常包括正弦刻槽。刻划光栅具有衍射效率高的特点,全息光栅光谱范围广,杂散光低,且可作到高光谱分辨率。 IAf,TKfe
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光栅方程 ~aQ>DpSEf
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反射式衍射光栅是在衬底上周期地刻划很多微细的刻槽,一系列平行刻槽的间隔与波长相当,光栅表面涂上一层高反射率金属膜。光栅沟槽表面反射的辐射相互作用产生衍射和干涉。对某波长,在大多数方向消失,只在一定的有限方向出现,这些方向确定了衍射级次。如图1所示,光栅刻槽垂直辐射入射平面,辐射与光栅法线入射角为α,衍射角为β,衍射级次为m,d为刻槽间距,在下述条件下得到干涉的极大值: VT96ph
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mλ=d(sinα+sinβ) GMU.Kt
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定义φ为入射光线与衍射光线夹角的一半,即φ=(α-β)/2;θ为相对与零级光谱位置的光栅角,即θ=(α+β)/2,得到更方便的光栅方程: {9vvj
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mλ=2dcosφsinθ ck>|p09q'9
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从该光栅方程可看出:
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对一给定方向β,可以有几个波长与级次m相对应λ满足光栅方程。比如600nm的一级辐射和300nm的二级辐射、200nm的三级辐射有相同的衍射角。 RXh0hD
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衍射级次m可正可负。 vmK<_xbwd
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对相同级次的多波长在不同的β分布开。 W?mn8Y;{`
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含多波长的辐射方向固定,旋转光栅,改变α,则在α+β不变的方向得到不同的波长。 5Al59]
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如何选择光栅 Ck8`$x&t
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选择光栅主要考虑如下因素: zDeh#
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刻槽密度G=1/d,d是刻槽间隔,单位为mm。 dRTtDH"%
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闪耀波长 .%_scNP
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闪耀波长为光栅最大衍射效率点,因此选择光栅时应尽量选择闪耀波长在实际需要波长附近。如实际应用在可见光范围,可选择闪耀波长为500nm。 Idop!b5!
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光栅刻线 ?6+GE_VZ
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光栅刻线多少直接关系到光谱分辨率,刻线多光谱分辨率高,刻线少光谱覆盖范围宽,两者要根据实验灵活选择。 +6@".<
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光栅效率 Ay;=1g)8+f
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光栅效率是衍射到给定级次的单色光与入射单色光的比值。光栅效率愈高,信号损失愈小。为提高此效率,除提高光栅制作工艺外,还采用特殊镀膜,提高反射效率。 y;<^[
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光栅光谱仪重要参数: !yU!ta Q
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分辨率(resolution) ~j}di^<{
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光栅光谱仪的分辨率R是分开两条临近谱线能力的度量,根据瑞利判据为: jCqs^`-
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R==λ/Δλ lfG]^id'
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光栅光谱仪有实际意义的定义是测量单个谱线的半高宽(FWHM)。实际上,分辨率依赖于光栅的分辨本领、系统的有效焦长、设定的狭缝宽度、系统的光学像差以及其它参数等。 ^eQK.B(
R∝M.F/W 3ddH@Y|
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M--光栅线数 F--谱仪焦距 W--狭缝宽度 L^3~gZ
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色散 ~F~g$E2 }
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光栅光谱仪的色散决定其分开波长的能力。光谱仪的倒线色散可计算得到:沿单色仪的焦平面改变距离χ引起波长λ的变化,即: Ta`=c0
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Δλ/Δχ=dcosβ/nF +:pjQ1LsJ
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这里d、β、F分别是光栅刻槽的间距、衍射角和系统的有效焦距,n为衍射级次。由方程可见,倒线色散不是常数,它随波长变化。在所用波长范围内,改变化可能超过2倍。根据国家标准,在本样本中,用1200 l/mm光栅色散的中间值(典型的为435.8nm)时的倒线色散。 Zm,<