[原创]1-4X24瞄准镜系统像质 [复制链接]

最近做了一个枪用瞄准镜系统，最终的像质附件所示。轴向色差大了一些，其他的问题请对瞄准镜系统比较精通的高手能指点一二！谢谢！ AE={P*g  
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最重要的传函没有给出来，结构应该看一下是否正确，变倍的时候是否系统长度是不变的。

系统长度肯定是不变的，这个控制的没问题，传函对于目视光学仪器来说，没有那么重要吧？只要中心满足人眼分辨率>0.5@0.5CYCLE/ARC-MINUTE就可以了吧？

1、没给出性能参数和结构参数，不能确定像差容限，从而不能判断系统像质好坏。 T)&J}^j  
2、点列图不错。是否是全系统加理想面计算的？如是恐不妥。以分划板为界，之前部分为物镜，之后部分为目镜，应分别校正像差，以使物像和分划板都成像清晰。不论分划板放置在第一像面还是放置在第二像面。（兼顾你有关第二像面的帖子） +-&N<U  
3、变倍过程中，入瞳直径改变否？如不变，则在1X位置时出瞳直径也是24mm，枪瞄出瞳距较大，一般在60---80mm，长出瞳距、大出瞳直径、视场角不大的目镜也是很难设计的哟。 [HI&>dm=$  
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1.对于目视光学仪器，尤其是变倍枪瞄来说，我觉得如果再按照像差容限来计算并没有很大的作用，因为一般的变倍枪瞄很难把像差计算到容限的范围以内，比如分划丝在二次相面，前面部分各焦距下的球差几乎不可能全部校正到0.1以内，此处的像差容限的经验值，我到觉得经验更重要一些！我发这个帖子出来，就是想讨论一下一些像差的容限，比如说二次相面之前的球差，轴向色差和像散，场曲。 #t:]a<3Y2  
2.点列图的单位是arc-minute,是在Afocal module下计算结果，并没有加入理想面。 o90SXa&l/  
3.不管是在一次像面还是在二次相面，都做到成像很清楚，这个很难；在一次像面位置，中心成像可以做的很清楚，但是边缘由于场曲和像散存在，并不会很好，对于相对孔径比较大，视场比较大的物镜而言，比如F1.8HFOV12的望远物镜，其成像也比较难校正到很好。在二次像面位置，由于经过了转向部分的放大，轴向像差会BETA^2放大，这样，球差，场曲和像散都会变得很大，所以，二次像面，我认为很难校正到很好。 #/$}zl  
4.变倍过程入瞳直径是变化的，出瞳直径10-4mm；出瞳距离是80以上~ R#i|n<x  
希望指点！谢谢！~ !<H[h4g  
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1.你是否想为变倍枪瞄设计建立一套“经验值”像差容限？这需要大量的实例支持。想法积极大胆。祝成功。 4J0{$Xuu0  
2.第一、第二像面像差都得到校正，这的确很困难。如果仅只保证放置分划板的那一个像面呢，例如第二像面放置分划板就保证该像面的像质。将分划板之前的“物镜+转像镜组”统一考虑，等效成一个变倍望远物镜，不去考虑单一物镜像质，而考虑“物+转”的像面即第二像面像质，按望远物镜像质要求；分划板之后为目镜部分，按目镜像质要求。 p.^mOkpt  
3.请教：如何设置无焦模块Afocal module及使用。我用的ZEMAX-EE-C 1990---2005版具有此功能吗？ ^ j;HYs_  
谢谢！

1.确切的说，我是有此想法，我也做了差不多10几款瞄准镜了，但是总觉得一些事情把握不好，附件的这个像质看起来应该可以用，但是我实际加工出来，边缘的成像很差，并且画面晃动很厉害，中心清晰度还可以，但是也晃动。边缘不清晰，很明显是像散的原因，画面晃动应该是二次像面那里的场曲较大造成的，而中心晃动，我认为是球差所致，但是实际这些像差，与容差的计算结果相比，并不是很大。比如说球差，理论值1.1左右，我实际设计值1.3，按理来说，应该是可以的，但是实际并不行，像散也是这样，2个屈光度左右应该是可以的，但是对于大视场的瞄来说，可能就有点大了。所以，我才想找一些经验值，我觉得这个很重要！ ,X(P/x{B  
2.我目前的系统是物镜整体来考虑的，并没有分开，分化之后的场曲和像散都不小，我担心分划丝的边框不清楚。我也尝试过整个系统包括二次像面和最终的无焦模式一起来优化，结果是目镜的边缘成像很差很差，但是最终的成像还不错，这样分划丝的边框肯定不清楚！ $T{,3;kt  
3.Zemax2005的不知道有没有afocal模式，你看看general那里有没有。

1.未见结构参数，不能做具体的量值讨论。 g\)+ LX  
2.边缘像质很差，你十分肯定是像散的原因，其理由呢？ Vd3'dq8/?  
3.画面晃动是什么意思？所有倍率时都有这种现象？是视差吧？ p 2xOjS1  
做过十几款枪瞄已是大侠。多指教，多交流，谢谢。

从你给出的点列图来看，你的入瞳设置肯定有问题。这样设计出来的枪瞄是不能用的。 jb1OcI%  
而且枪瞄在使用的时候，肯定会出现很严重的像面晃动问题。 5MV4N
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我看上面大家讨论了半天，到底也没说出枪瞄设计的关键。