RT 对一个相对复杂的系统(用TracePro4.16的expert版,包含双折射晶体、自定义光栅、还有较多的螺纹)杂散光分析时,用的simulation模式,可是还是出现如下问题 Wp
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首先是runtime error TSEv^u)3
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请问此问题何解啊何解???头疼啊,已经用simulation模式了,光线阈值又不能设太低,要不然像面根本就没有杂散光光线,重点采样也初步设了点, iRIO~XVo
这个,是不是软件版本问题啊,感觉这个版本有点不稳定…… 可是又找不到更高的可用版本,求推荐版本啊 Zn{Y+ce7d
这里还有一个重要的问题是光栅的问题……这个比较复杂,这里也说不清楚……额,我怎么这么多问题,头都大了,希望各位帮忙啦,谢谢各位神奇的斑竹啦