V11.4.585 ?1T)cd*
核心 { 0RwjPYp
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已修复以下问题: H*51GxK
&b'IYoe
> r1cW7
9AF%Y:y
如果材料没有用于内部传输的条目,则使用该材料打开设计将始终尝试打开设计的存档。 & Xm!i(i
"m,)3zND3
未从设计文件中加载错误参数 ,P ~jO
S3 12#X(%
多次单击"反向工程"中的"调整"按钮将启动对相同数据的多次调整。现在一次只执行一个调整。 6|:K1bI)
PvF3a`&r
当设计具有厚层时,冻结活动图不起作用 ?*cr|G$r[
WVyk?SBw
误差计算没有正确设置用于事件介质或基材的活性材料。 6Ck 3tCr
h*d1G9%Q1
无法在参数 > 性能中输入图层编号 pse$ S=
~8:q-m_h
在从外部来源导入设计期间,改进了外部设计中材料与数据库中材料的匹配。 3N c#6VI
Gf71udaa
运行表 ^% ZbjJ7|j
#0$fZ
7"Qj(N
以下问题已修复: #djby}hi
n x4:n@J
qJ(XW N H
O{^8dwg
芯片上的上一层并不总是正确选择。 =D;n#n 7
3Gi^TXE]
M5 \flE2
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V11.4.584 W% @r
核心 v}\4/u
{z#!3a
+xNV1bM
以下问题已修复: ":@\kw
OFe-e(c1
IVSOSl|
x994B@\j+
验证站点密钥后,不会立即更新选项。 rj}O2~W~4
g'cLc5\
V11.4.583 J4?i\wD:
核心 !E7J Dk''@
A |u-VXQ
6|uv+$
以下问题已修复: #ZkT![`
|P0!dt7sQ
0:I[;Qt
CiWz>HWH
目标生成器中没有回反射导数。 Oh# z zo
wxJu=#!M
V11.4.582 [[$dPa9
核心 uwl_TDc>%
%lq[,6?>5
7+9o<j@@o
以下问题已修复: IJ]rVty
bog3=Ig-
^'\JI
'uC=xG.*}
当仅为斜角图选择p 极化且选择了事件角度标签时,该标注不会显示在绘图上。此外,如果选择了表,则 s 极化列为空。 7F2 WmMS
fn#qcZv?
V11.4.581 N C%96gfD
核心 <@Z`<T6
GJ5R <f9I
E/V_gci
以下问题已修复: :
&bJMzB
\VpN:RI
Gg e X
O!!N@Q2g
Optimac 参数对话框中未显示图层的最大数。 8
XQo
.0YcB
V11.4.580 gLm,;'h%u
核心 2##;[
\sz*M
B
E+ctiVL
以下问题已修复: %oB0@&!mS
xkC M*5:
'ZJb`
<?nz>vz
在 Stack 中,在某些情况下,第二个垂直轴图例中的射点角度未正确显示。 qjObu\r
!YPwql(
V11.4.579 IaZmN.k*
核心 {]bmecz
e
|K_y~
jG~-V<&
添加了尝试替代路径到简单,Optimac合成和针合成。大多数优化方法在从起点移动到改进的解决方案时选择单个路径。对于更困难的问题,这可能不是最好的途径。尝试"备用路径"会导致优化器根据下一次迭代中的潜在结果选择不同的路径。由于优化器不知道将走哪条路径,因此必须考虑每个可能路径的下一次迭代。这会导致运行时增加,因为必须执行更多的功绩图计算,因此该技术将导致迭代速度的减慢。要使用"尝试备用路径",请检查"简单"或"Optimac"或"针"合成的参数窗体中的选项。 %QG3~b%
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D]o=I1O?
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边缘过滤器工具已经增强,现在它找到了更广泛的材料设计。 *I!R0;HT
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P3 .
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基底n,k & T 工具已经增强,因此现在也可以接受抑制二表面反射的单面反射测量。 4> uN H5
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+`bnQn]x+
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各种绘图参数现在可以指定多个值。其中包括:事件角度、计算波长、温度偏移、带宽和锥角。使用不是以下之一的分隔符指定多个角度:数字、+、-、E、e、周期、逗号。例如,如果在入射角度框中输入"0/15/30",则选择绘图时,将绘制三个角度的曲线。表仅使用列表中的第一个角度。 p>,D F9W`
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