ZEMAX（上海）光学设计软件标准暨照明培训班5.24-29

开课时间：2010年5月24-29日 开课地点：上海市区 bh6wI%8H  
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● 主办单位 P\0%nyOG(%  
南京理工大学 电子工程与光电技术学院 tZ24}~d
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光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn 6i=wAkn_J  
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● 课程形式 ~vZzKRVS  
讲师讲授与学员互动式教学、下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学 W$&Ets8zo  
● 课程对象 jY6=+9Jz5  
光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 e>9{36~jh  
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●课程特色及内容 &Zy=vk*  
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ZEMAX光学设计标准培训班 5月24日- 5月26日 wyEgm:Vt  
☆本课程为ZEMAX标准学习课程，专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括：
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1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因 >gLyz2  
及平衡像差的方法。 }ucg!i3C  
2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 KKJ[  
3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。 84
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4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。 3t6'5{  
5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 qinQ5t
  
6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 ,/U9v~  
7、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。 Rk0rHC6[  
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ZEMAX光学设计照明培训班 5月27日-5月29日 9f[[%80  
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☆本课程专门针对ZEMAX最新版本的非序列（NSC）模式设计照明光学系统，掌握NSC系统的模拟方法和使用技巧、优化及光线探测理论，课程内容包括色度照度理论，LED配光、LED匀化，LED光源，各种光源物体建模、杂散光分析、自由曲面设计、照明系统、投影系统、光纤光管、干涉衍射系统以及详细的非序列使用功能讲解（详细见课表）。 =9MH
  
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● 费用及优惠 1OeDWEcB  
标准班：3000元/人 照明班：3000元/人 {oeQK  
☆ 同一单位有三人以上报名客户 ☆ 光研软件购买客户 $466? oI  
☆ 同时报两门课程（标准+照明） 培训费用均享受8折优惠 gZSi\m>  
特别说明：由于培训在上海世博会期间举办，为了回馈长期以来关注光研的客户，在4月30日前注册课程并完成付款的客户，除培训费用均享受8折优惠，同时赠送世博会精美纪念品一份！ l@jJJ)Qyk  
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● 培训证书  `.-C6!  
培训结束后，将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书 'F~SNIay  
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●其他事项 pD/S\E0@t  
每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用 =D$r5D/xd  
统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材，学员自带电脑，统一安排培训 S
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●课程报名 WF0>R^SpZ  
本次课程分为ZEMAX标准培训班3天，ZEMAX照明设计培训班3天，学员可以分别独立报名任意班，也可一起报名。参加照明班要求具有基本的水平，否则学习会有难度。为了学习到更全面的系统设计及软件功能，序列与非序列结合显得尤其重要，同时参加标准与非序列照明课程，会让您轻松学会各种系统设计与模拟。   ?OdA`!wE  
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上海ZEMAX光学设计标准培训班课表  （5月24日-5月26日） ^/,yZ:  
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日期 q0<`XDD`   )$g/PQ   内容 !g:UM R   -*r';Mz;	第一天 ( mMz]b5	第二天 i*>yUav"	第三天 _xs Ycw~)
9:00-10:30 :]jtV~E\   第一节  {`	基础光学理论 t9{EO#o'k   玻璃材料特性 ajr8tp'   一阶光学 @ U|u _S@   像的形成 (#`o>G(   光瞳和光阑 =c4U%d2   三阶光学 mg]dKp	衍射理论及衍射极限系统分析 (7 iMIY   MTF传递函数定义 C(hg"_W ou   双高斯照相镜头MTF优化实例 G8'3.;"W5	热分析及无热化设计 0<k!F3=   频谱仪的设计实例 h^,a 1'   渐晕系统分析及优化特点 #YdU,y=B      | w -W=v
10:30-10:45 MG>;|*$%	Coffee break (%, '	Coffee break Yd'ke,Je	Coffee break M$9h)3(B
10:45-12:00 ^u{$$.&   第二节 IuD<lMeJJ	各种像差描述 ,Nh X%   平衡像差方法 1uMdgrJRR   ZEMAX使用界面 !}?]&[N=   创建光学系统（定义孔径、视场、波长、变量参数等） uI/ A_	坐标断点 X.qKG0i   如何精确地模拟系统倾斜与偏心 4G ?k31,k   牛顿望远镜设计实例 !hUyX}{`j   光路路径查找来确定最小元件口径的方法 ^< -SW]x   （掌握坐标断点） DK;-2K	高斯光束整形（可选） u)- l +U.   三反离轴光学系统设计 ww,'n{_
12:00-14:00 3&f{lsLAC	Lunch break <LY+" Y	Lunch break {rQ`#?J}^?	Lunch break >{Djx
14:00-15:30 *6DKUCA/   第三节 ;C'*U i	单透镜设计及优化过程 pm+[,u!i   参数求解类型 ,*US) &x   三种像质评价方法 C4,W[L]4"	准直系统设计几种方法 #q%/~-Uk   激光扩束系统设计实例 l"/Os_4O   系统存在成像与准直面两种标准同时优化技巧 t)h3GM   多重结构系统 ::6@mFLR   变焦镜头设计实例 D@e:Fu1\R	镜头制造和样板测试 KMa?2cJH#   公差介绍 .E(Ucnz/   公差操作数详解 "PPwJ/L(   系统公差设计过程 `fXcW)   蒙特卡罗结果分析 #"l=Lv
15:30-15:45 t"Rn#V\c."	Coffee break  OxRzKT	Coffee break W;7cF8fu4	Coffee break eo!{rs@f
15:45-17:00 r.[kD"l   第四节 ?~"RCZ[;.f	双胶合透镜设计优化实例 u56cT/J1   玻璃优化技巧 G6FknYj	f-theta镜头设计原理 rnUe/HjH   扫描镜头设计实例 x\WKsc   转鼓扫描系统设计方法 WD<M U ]	问题解答 kq+L63fZ

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本课程配备ZEMAX公司标准培训教材 Yyf8B  
上海ZEMAX光学设计照明培训班课表（5月27日-5月29日） A#}IbcZ|b  
 

日期 :|bPr_&U$   gU:j x   内容 Onao'sjY   {.v+ iSM	第一天 pnWDsC~)	第二天 pV_2JXM~@	第三天 d}1R<Q;F
9:00-10:30 ;-59#S&?tB   第一节 ~~&M&Fe	非序列综述 x(A.^Yz   光源种类 R"jX9~3Ln   色度学分析 d4/ZOj+%	散射 积分球 0oD?4gn   分光、滤光和光线数据库 se&:Y&vrc~   NSC分光片 o4xZaF4+	ZEMAX照明系统优化 s<:J(gD   光管照明设计 Q/':<QY
10:30-10:45 ` 6PdMvF	Coffee break |X>:"?4t	Coffee break AyddkjX	Coffee break opKtSF|)
10:45-12:00 uXXwMc<p   第二节 (sY?"(~j?T	几何物体类型 ~%cbp&s*/q   探测器 krgsmDi7   非序列系统实例 vb# d%1b5   光型分布 l&zd7BM9(	ZEMAX杂散光分析 a!;?!f-i   衍射元件 WlU5`NJl]2   光纤模拟 <S<(wFE@4      $%LjIeVA5	椭圆反射体的耦合设计 CQS34&G$a   CAD导入导出 o}<}zTU   自由曲面反射灯具设计 )tB mSVprl      Ef69]{E
12:00-14:00 e tY9Pq	Lunch break oE}1D?3Sp	Lunch break wJi p{	Lunch break .pZwhb
14:00-15:30 [E+#+-n7   第三节 ? r^+-	非序列棱镜系统 qjuX16o   菲涅尔透镜 9M<{@<]dm   面元反射体 `zF=h#i   抛物面反射体 ~)ls.NXI	ZEMAX复杂物体的构建 G0^NkH,k	ZEMAX柯勒照明系统设计 k/Z}nz    聚光镜和投影设计 .Um.dXBYU
15:30-15:45 .7" f~%&oP	Coffee break \xwE4K	Coffee break 9 u{#S}c`	Coffee break 0Db#W6*^
15:45-17:00 lj(}{O   第四节 :`25@<*u	偏振与薄膜 \)pk/   干涉和干涉仪 52=?! JM   CPC物体设计 ^8-CUH\	LED配光及优化设计 1-4W4"#   LED二次透镜设计 *22}b.)	问题解答 wj/OYnMw

本课程配备ZEMAX公司照明培训教材 4$C:r&K  
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● 报名咨询及热线 h5>JBLawQP  
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联系人：侯小姐    电话：025-57929358-808   传真：025-57929359 /2 ')u|  
E-mail：nancy@wavelab-sci.com.cn  sales@wavelab-sci.com.cn