武汉zemax标准培训开始招生啦！2009.08.12-14

▓▓▓▓▓▓  ZEMAX （武汉）光学设计软件标准培训班  ▓▓▓▓▓▓ -/yqiC-yx  
▂▂▂▂▂▂▂  开课时间：2009年8月12日—14日  ▂▂▂▂▂▂▂ 9%!h/m>rW  
▂▂▂▂▂▂▂  开课地点：武汉市区  ▂▂▂▂▂▂▂ /{i~CGc;"  
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●   课程特色 x84!/n^z  
本课程为ZEMAX标准学习课程，专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。授课全程使用正版软件讲解。 )r2Y@+.FN  
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课程内容包括： 3nq?Y8yac  
1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因及平衡像差的方法。 e
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2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 o.+;]i}D  
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3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。 p@m0Oi,=  
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4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。 t un}rdb  
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5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 d+9V% T  
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6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 CWj_K2=d  
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7、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。 {!"UBALxc  
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●   培训证书  (I[_}l  
培训结束后，将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书 a:kAo0@":j  
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●    报名咨询及热线 xEb>6+-F@  
025-57929358（直线）   025-57929359（传真）   IpP%WW u  
朱小姐，E-mail：linda@wavelab-sci.com.cn