武汉zemax标准培训开始招生啦!2009.08.12-14

发布:linda 2009-07-09 09:16 阅读:8612
▓▓▓▓▓▓  ZEMAX (武汉)光学设计软件标准培训班  ▓▓▓▓▓▓ }.V0SM6  
▂▂▂▂▂▂▂  开课时间:2009年8月12日—14日  ▂▂▂▂▂▂▂ yi-"hT`  
▂▂▂▂▂▂▂  开课地点:武汉市区  ▂▂▂▂▂▂▂ N<"6=z@w+  
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●   课程特色 G:C6`uiy`  
本课程为ZEMAX标准学习课程,专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置,通过本课程密集培训和练习互动后,学员能达到独立轻松设计光学系统,并能进行分析及优化和公差评估。授课全程使用正版软件讲解。 He-Ja  
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课程内容包括: !vVjZ  
1、光学理论基础介绍,几何经典成像理论,像差理论,一阶光学与三阶光学计算像差,像差产生原因及平衡像差的方法。 AnE_<sPA  
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2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 `=$jc4@J  
A+1]Ql)$  
3、光学系统设计实例,包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计,从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构,变焦镜头、扫描镜头设计 ^'53]b:  
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4、ZEMAX的优化技巧探讨,设定评价函数及评估系统性能的方法,优化操作函数的选择,玻璃材料的优化方法。 1S]gD&V  
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5、衍射光学理论,衍射极限系统分析,MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 U2>dwn  
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6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 ?$@ KwA  
sa(M66KkU  
7、光学系统公差分析,模拟实际加工及装配中产生的误差,预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤,蒙特卡罗结果分析集阐释。 LO}:Ub  
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●   培训证书 .Jat^iFj0  
培训结束后,将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书 hB$Y4~T%  
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●    报名咨询及热线 Nk7eiQ  
025-57929358(直线)   025-57929359(传真)   SAE '?_  
朱小姐,E-mail:linda@wavelab-sci.com.cn
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最新评论

maoqinjun 2009-08-11 10:55
咦......12号到14号开课,我好像赶不上了。真想去
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