[分享]膜系设计新软件 [复制链接]

到底是什么软件啊 LdDkd(k  

不错的东西。。。。。。。。。

正好需要，下来看看

这个会准吗？

学习学习

本人从事光学行业多年，从一个镀膜的操机员做起，学习着机台的操作，那时，好希望自己能向工程师他们那样，多么想自已设计一个膜系在机台上加工，于是我很努力的学习TFCALC设计。可是由于当时没有人教，一般光学厂，这些东西，人家都不会随便教人的。因为不止是技术，更多是人家自己积累的经验。还好，我比较爱上网，爱上网上找些这方面的资料。之前，在网上自已下载的一份TFCALC中文说明书，自己每天看，公司里有TFCALC软件，可是一般都不让你玩，更不会有人教你。很幸运，在光学论坛有位好心人送了一份，于是，我开始自己开始操作，学着设计。其中，也遇到不少的问题，这软件全部都是英文的，对于我来说，一个技校生，跟本就看不懂它每个菜单的意思，实在是不好操作。不过还好，因为自己是做镀膜的，了解膜层的加工过程，也认识一些光学材料，光学玻璃的性质。对着自己下载的说明书，很快我也会自己设计一般的膜了。那是我进光学厂的第一年，我学

Essential Macleod是一套光学薄膜分析与完整设计的软件包。它能在任一32位微软窗口环境下执行且具有一真正的多文件接口。它能提供所有光学镀膜之设计以及评估所需，包括(高密度)分波多任务(DWDM, Dense Wavelength Division Multiplexing)滤波器，处里范围从超高速到颜色的性能参数。它亦可重新或改进原有设计，探查误差以及撷取设计使用膜层材质的光学系数。 TAi |]U!  
　 kD >|e<}\  
功能： 5u~Ik c~  
容易使用，熟悉的窗口外观与感觉 t1n'
Ecm(  
完整的效能计算 "P&|e|7  
用户定义的单位 <Zl0$~B:5  
设计改善 2a (w7/W:  
设计综合 jO3Q@N0_  
折射率改善 ZZ]/9oiF%  
n 和 k 的导出 FnvN 4h{S  
公差 gG*O&gQY  
色彩计算 b1\z&IdC  
材质管理 -x:Wp*,  
完全的支持服务 DS=kSkW^&5  
超快参数 wI#rAx7f-  
调适性绘图 [B+o4+K3  
设计与分析工具 A}t.`FLP,j  
出版水准的图形 L((z;y>q|  
汇出设计到 ZEMAX !CPv{c`|qg  
Macleod 增益功能扩展。容易使用，熟悉的窗口外观与感觉 D<5gdIw  
　 FGy7KVR  
重点 ： K)_0ej~C  
效能计算 NV36Q^Am[  
Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括的密度、吸收，椭圆对称参数，超快参数 ( 群组延迟、群组延迟色散、三阶色散 ) 、和多光色散。以可以进行色彩计算。公差的计算是要你有能力分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 6X7r=w  
用户定义单位 CW*6 -q  
单位通常对用户的使用会产生问题，但在 Essential Maclead 则不会，因为实质上任何独立变量的一致性单位都可以被使用。电子伏特或 Gigahertz 或频率波数，埃或奈米或微米甚至微 - 英寸作为波长单位皆可使用。单位间的转换也很容易。 4{}u PbS  
调适性绘图 r1}7Q7-z  

善 (REFINEMENT) e7]IEBbX2O  
使用 Optimac 、 Nonlinear Simplex 、 Simulated Annealing 进行改善 . 我们推荐在正常情形下使用 Optimac ，它是一个很好的改善技术。 Simplex 则较为快速和稳定。 . Simulated Annealing 视为统计技术可以有向的使用于抗拒性情况，但是耗时。在改善的过程中膜层可以被锁定以防止其厚度的变化。 Linking 可以步阶式的改变厚度。 kYPowM  
要改善的标的物可以定义为任一效能计算结果的参数，像是颜色、波长 ( 或是频率 ) ，入射角，重量以及公差。标地物允许更为复杂的评价函数。一个标的物产生器可以帮助在不同的波长和入射角，创造多标的物。 "y_$!KY%  
逆向工程 azj<aaH  
Essential Macleod 提供在制造过程中所产生误差的鉴定支持。此支持是经由 . Simplex 改善法的增益功能所提供。 Simplex 提供的折射率与厚度的改善。它能随时以不同的方式限制，以匹配制造过程中产生的不准确性和其它的问题。这些限制也可以不断的变更和调整，直到找到答案，指出可能误差的本质和大小。 ?9mWMf%t  
折射率的更动是以封装密度改变的型式表示。如果有需要的话，也能藉由修饰既有材质的封装密度，以创造出新的材质。 x03GJy5  
综合 XLEA|#  
Optimac 技术也能以综合的模式操作，以加入或移开膜层的方式，以符合规格的需求。综合法可使用于改进原有的设计，或是仅由一个材质表及一个规格，即可创造新的设计。此图显示以这种方式的防反射膜层设计的过程。 ]L}<Y9)t  
Optimac 是可以纪录的。它维护了一个完整的优化设计历史，允许设计效能与复杂度之间作取舍。 j(va#f#  
分析工具 CUlANd"  
附加的分析工具包括： Admittance diagrams 、 Circle (reflection coefficient) diagrams 以及 Electric Field plots . 电场图能计算电场振幅绝对值。此工具提供你比较许多膜层能量吸收，以估计相对损害；或是同一膜层不同波长的能量吸收。这样的计算对于相对场的计算并不恰当。 Admittance 以及 Circle diagrams 则可帮你了解设计是如何进行的。它们可以被视为完整的视觉纪录，纪录了不同的膜层藉由传递导纳，或是复数振幅，或是复数振幅系数，由系统后端到前端，以建立镀膜效能。 ds5<4SLj  
色彩计算 l*B;/ >nR  
色彩计算，根据以下最为常用的色彩规格 Tristimulus {D1=TTr^  
Chromaticity }eEF/o  
CIE L*a*b* %Q
wMB`x  
CIE L*u*v* + #S]uC  
Hunter Lab r>$jMo.S"  
某些光源选择是预先定义好的，而你可以根据需要另作选择。 CIE 1931 和 1964 配色函数也包含在内。同要的你也可以另订你所需要的。如同能计算透射及反射的色彩，色彩也可以改善法或综合法的标的物来定义。 ~4XJ" d3L  
设计工具 <%qbU-  
Essential Macleod 提供不同种类的工具，来支持设计过程。 . Editing ( 编辑 ) 工具使得设计的操作更为容易。这些工具包括：设计中进行膜层反转，变更所有设计材质，以公式设计，厚度成比例增减，匹配角度计算，及删除，非邻接膜层的复制及贴上。类似的工具亦可编辑需求规格、材质资料、表格以及图形。也提供能设计感应透射滤波器 (Induced Transmission Filters) ，非偏振边滤波器 (Non-polarising Edge Filters), 以及等效 (Herpin) 膜层参数的计算。 Induced Transmission Filter 工具计算特定金属层的位能透射率，及计算需要匹配滤波器与四分之一波电介质膜层的厚度。它也可以使用于从一特定的吸收材质的既定厚度 . ， 决定最大可能的透射率。 The Non-polarising Edge Filter 工具，根据五膜层双材质对称形结构，创造出初始的对称周期设计。最外层膜层可以之后被改善，匹配滤波器设计与基底，和入射介质。 xV}|G  
OPTICAL ASSEMBLIES l]oGhM;  
多数的镀膜组件至少有两个表面。一个胶合的滤波器配件或是镀膜的复合透镜则不止。镀膜建的基底可能会吸收光线到某个程度，视波长而定。 .Essential Macleod 还包括了一个计算序列多层膜层与基底的效能工具。一个有效编辑器，能堆栈配件，实质上可以有无数多层的组件，甚至还包括未镀膜的吸收滤波器。表面可以是平行或揳形，简化炫光与杂散光的估计。 %#/7Tl:  
材质管理 8QFY:.h&  
实际的材质会显现其光学常数的色散，这与波长有关。实际的计算必须包含这些变动。每一种材质贮存于随波长改变的折射率和消光系数的表格中。这允许对任一种色散建模。强大的编辑工具包括曲线外插，汇入 / 汇出功能等等，都非常容易使用。 hh:0m\@<  
材质行为通常不尽理想而且光学常数常常会随特定的镀膜机器和铺置参数变动。操作条件也会影响材质性能。举例来说，一个冷却的红外线滤波器其作业效能可能迥异于室温下的效能。多重材质数据库因而也有提供。设计能够很容易的由一个材质数据库移到另一个，始能探讨温度与镀膜工厂不同的效应。多重材质数据库还有另一优点。例如，它们允许属于客户的数据库被独立隔离保护。 yK{;72  
导出系数 N 和 K 0ZkA.p  
虽说 Essential Macleod 提供完整的材质数据库，但是通常一特定镀膜工厂，可能并不具备与数据库中材质相同光学常数的膜层。 n & k derivation 工具 A3C<9wXx  
设计改善 P/M*XUG.  
设计综合 B<8Z?:3YS  
折射率改善 90K&s#+13  
n 和 k 的导出 .6e5w1r63  
公差 j><.tA~i  
色彩计算 @>X."QbE  
材质管理 He">kJx  
完全的支持服务 <:RU,  
超快参数 >"z
SW?  
调适性绘图 dXrv  
设计与分析工具 WXO@oZ!  
出版水准的图形 L_ 8C=MS  
汇出设计到 ZEMAX "9>#Q3<N  
Macleod 增益功能扩展。容易使用，熟悉的窗口外观与感觉 o] )qv~o)  
　 `S$BBF;  
重点 ： uh
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效能计算 R^%7|  
Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括的密度、吸收，椭圆对称参数，超快参数 ( 群组延迟、群组延迟色散、三阶色散 ) 、和多光色散。以可以进行色彩计算。公差的计算是要你有能力分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 *(D_g!a  
用户定义单位 k9yA#
 
单位通常对用户的使用会产生问题，但在 Essential Maclead 则不会，因为实质上任何独立变量的一致性单位都可以被使用。电子伏特或 Gigahertz 或频率波数，埃或奈米或微米甚至微 - 英寸作为波长单位皆可使用。单位间的转换也很容易。 ~l{CUQU  
调适性绘图 iCc@N|~  

公差 ^XZmtB  
Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度。可以比较不同的设计以挑选出最优者。虽然设计可能相似，其灵敏度则不然，由此公差特性即可显示。 2&Wc4,O!i  
支持服务 H^'*F->BA  
Thin Film Center is 所提供的服务可以说是业界最好的。在维护期间的会员 (Members of the Update Service) 通常会有最新版的软件，而且免费的 35+ 年经验支持的技术服务。 A/BL{ U}  
他们也能收到有新闻、导览、小常识及益智问题的季刊。这些服务再购买软件的第一年都是免费 的，年维护费或在一年后才收取。 l ^\5Jr03  
Thin Film Center 也针对一般设计以及镀膜制造，开授定期课程。此外也不断的提供最好的 Essential Macleod 及其增一功能。 LLaoND6  

功能乃规划镀膜制程，包含机器组态编辑器以及跑单产生器。机器组态中贮存镀膜机器的细节，光源以及制具因素，还有监控系统。用户可使用跑单针对既定的机器组态，进行镀膜设计的监控规划。除了同时包含光学与晶体监控外，也包括诸如动态制具因素和系统频宽等先进特性。 <t]i'D(K  
"  Simulator QJGRi  
制作一个滤波器到底有多困难？仿真器可以帮忙回答这问题。在光学镀膜制程中，公差的评估是一个很实际问题，而且并不存在良好的、通用的或是分析性技术，来解决此一问题。在 Macleod 的核心部分有一简单工具 Errors ，能假设所有膜层具有独立的随机厚度误差，且能很快的显示出独立控制在许多原本就必须以其它方法建置的镀膜过程中，要求了不可能达到的精确度。事实上，公差与误差的效应跟控制技术极有关联。 Simulator 将 Errors 经由 Monte Carlo 方式扩展成为实际的控制程序模型，来解决公