MEMS的课程论文,写得比较认真,希望对大家有用^_^ 传上来挣点分…… eX9{ wb(
6%NX|4_
本文主要对具有代表性的三维结构——针形阵列的多种制造工艺作出介绍。包括: OA2<jrGB!
1、移动掩模深X射线光刻(Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL)技术 $b\`N2J-_
2、改变X射线入射方向的二次曝光方法 `CW8Wj
3、水平型正交横截面技术(Plane-pattern to cross section transfer,PCT) .ps'{rl8
4、X射线灰色掩模技术 l2>G +t (,
并对最新的制造方法:X射线灰色掩模(X-ray gray mask)光刻技术做详细介绍。