MEMS的课程论文，写得比较认真，希望对大家有用^_^ 传上来挣点分…… b#/V ;
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本文主要对具有代表性的三维结构——针形阵列的多种制造工艺作出介绍。包括： Z
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1、移动掩模深X射线光刻（Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL）技术 b.w(x*a
2、改变X射线入射方向的二次曝光方法 pw(U< )
3、水平型正交横截面技术（Plane-pattern to cross section transfer，PCT） Vsm%h^]d
4、X射线灰色掩模技术 5 b#"
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并对最新的制造方法：X射线灰色掩模（X-ray gray mask）光刻技术做详细介绍。
