MEMS的课程论文,写得比较认真,希望对大家有用^_^ 传上来挣点分…… Q+d9D1b
lM1Y }
本文主要对具有代表性的三维结构——针形阵列的多种制造工艺作出介绍。包括: }R.<\
1、移动掩模深X射线光刻(Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL)技术 -"u9s[L{
2、改变X射线入射方向的二次曝光方法 \}O'?)(1
3、水平型正交横截面技术(Plane-pattern to cross section transfer,PCT) j5lSu~
4、X射线灰色掩模技术 Jf<+VJ>t
并对最新的制造方法:X射线灰色掩模(X-ray gray mask)光刻技术做详细介绍。