TracePro 和OSLO的区别 {>90d(j
主要区别 WxFVbtw
这二种新产品的最大区别是OSLO可以基于优化函数、相干光传播和分析波前,对光学系统进行优化。OSLO还有Gaussian光束分析、公差分析、部分相干、矢量衍射、局部和全局优化函数,这些TracePro都没有。OSLO还可以用多重结构同时分析和设计许多不同的光学系统。还可以使用户可以用一种分析,通过改变透镜之间的间隔及对整个变焦系统进行优化,设计变焦系统。 +dlN^P647
OSLO可以用内建的局部优化和全局优化加上用户自定义的优化函数,用几何任何标准进行优化。包括通过优化达到最佳像质、最小弥散斑或者使像差最小。 6?r}bs6Msx
TracePro用内建的CAD用户界面,主要分析通过光学或者照明系统传播的能量通量。它的主要用途是显示能量从光源通过任何光学、照明系统传播后的辐射/照度或者发光强度图。通过对点和方向上的非序列性光线追迹,用户可以用分析系统中任何位置的能量损失、吸收、反射、折射、散射或偏振。用户界面非常容易使用,并且允许用鼠标移动物件、生成物件或者用布尔运算修改物件。它是CAD界面,而OSLO则是电子表格界面。TracePro的CAD界面可以很快地学会使用,并且可以在光学和照明系统中观察到问题所在的区域。 8^kw
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TracePro的优点是它能够输入或者输出很多不同的CAD格式,包括:SAT,IGES,STEP和STL。 TracePro对光学设计的数据进行CAD整合,模拟真实世界。 TracePro是考虑真实世界仿真中可能发生的任何事情的全3D虚拟原形系统。 目前,OSLO只能输出IGES文件格式,输入的文件格式只有Code V和Zemax光学设计的文件。 ?8pR RzV$
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TracePro主要致力于如何追迹光学、照明或者照度系统中的能量。程序不但创建光线的网格,而且根据任何面上的通量信息创建真实的面光源。一个系统中可以有多个光源,包括白炽灯、荧光灯、HID、LED和半导体激光类的光源。程序还追迹透镜中重要的非序列性鬼像的路径,从光源到反射器再返回的情况、杂光光栏之间、装配机构之间和反射镜之间传播的杂光。 Oo$i,|$$
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TracePro的特点还包括光穿过体散射材料的体散射特性、用BSDF wizard输入被测表面的特性、bitmap translator 和建立真实薄膜。 !?,rcgi
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最后, TracePro Expert有一个叫做 RepTileÔ 的新算法,可以建立成千上万个重复的几何面。RepTile面用重复面算法,可以在任何平面上建立上百万个conical bumps, dots, pyramids, brightness-enhancing films (BEF), and Fresnels。 通过规定一个单元的形状,或者不同特性的一行单元来建立这些物件。 然后允许用户通过把模型尺寸、audit time 和 ray-trace time与solid geometry方法建立的等效模型进行比较,进行缩小来创建复杂的模型。 Ww:,O48%
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二种产品概貌 |pA3ZWm
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OSLO是能够满足当今光学设计需要的强有力光学设计程序。另外它还可以将先进的光线追迹、分析和优化方法结合起来解决大量的新问题。它基本上是一个光学语言程序。它的通用的CCL程序语言通过提供一般光学设计以外的编程,可以与程序进行连接产生新的函数。 :hC+r=!I
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