世界知名光學機構模擬分析軟體─TracePro ,-E'059
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重要特色介紹: -wV2
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TracePro是一套功能強大、準確可靠、介面友善、易學易用的光線追跡模擬軟體,專門作為照明設計或是光學機構設計之用。TracePro可以進行光學成像分析、輻照度分析及人眼視覺成像分析等,幾乎涵蓋所有光線追跡上的問題。 s<!G2~T
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TracePro擁有完整成熟的視窗介面,其直覺友善的設計架構,可以非常快速地讓使用者熟悉軟體的操作。TracePro使用ASIC實體繪圖引擎作為其CAD的運算核心,能輕易地新建或匯入光學模擬所需的固體模型。目前主流的CAD軟體均有支援ACIS規格(SAT檔),故其幾何轉檔上的相容性極高。另外,TracePro亦可支援IGES、STEP及STL的幾何檔案格式。亦可匯入鏡頭設計檔案(如OSLO、Code V、ZEMAX、ACCOS V及Sigma)做後續光線追跡之用。TracePro獨家研發的RepTile功能,可方便地建構重複性的光學零組件,特別像是LCD的背光模組導光板上的網點結構設計,可以大幅減低建模時間,加速產品的開發生產時程。 e8xq`:4Y
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TracePro的光線追跡的運算核心屬於非序列性描光(Non-Sequential Ray Tracing),除了可以自行建立光源與幾何物體的材料屬性外,亦可使用內建的光源及材料資料庫來執行光學材料的設定。TracePro可以同時或個別考慮反射、折射、吸收、雙向散射(BSDF)、體散射(bulk scatter)、漸變折射(gradient index)、光學薄膜(thin film stack)、螢光粉(Fluorescence)及偏光膜(polarization)等光學材料行為。搭配Monte Carlo的統計採樣計算方式,其光線追跡的結果十分可靠,能夠準確地預測光學行為。 cw
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在分析結果後處理的部分,TracePro提供了Irradiance/Illuminance Map、Candela Plot、Polarization Map與Incident Ray Tables等方式可以進行後處理的視覺化輸出,並可以匯出該結果作為儲存或資料交換之用,有助於企業累積其產品知識。 bs)wxU`Q*
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TracePro是一套與機構設計軟體可以快速而輕易接軌的光學分析軟體,能顯著提升企業對產品開發創新的能力;而其準確可靠的分析能力,使其在全球與台灣的市場佔有率都非常的傑出,並為各項產業廣泛地使用,其實際相關的應用範疇包括: c8uw_6#r(D
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顯示器產業: PL$XXj>|:
1. 可進行背光模組內網點的輻照/光照分析。 4uoZw3O
2. 可模擬背光模組內偏振光的行為,可考慮膜層的入射角、波長與溫度等,來定義偏光性質。 m6BUKX\m
3. 可進行增亮膜的光場分析。 :+jg311}
4. 可同時分析不同光波長的環境,得到CIE/色彩結果。 EDgtn)1
5. 可分析雙折射效應,包括分光到一般向量或特定向量。 Y"8@\73(R
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LED光源照明產業: T2w4D!
1.可進行二次光學的設計驗證與分析模擬。 %+j/nA1%S
2. 可進行螢光粉激光效應的模擬。 PA,aYg0f
3. 可模擬LED多重光源的混光結果。 j`.&4.7+
4. 可模擬LED的照明系統。 g*oX`K.
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傳統光源照明產業: g tMR/P:S
1. 超過200個以上的工業標準燈泡庫、包含Philips與Osram兩大品牌。 ~v2(sRJ
2. 可將實驗量測的光源,定義為檔案光源,或由Radiant imaging燈泡庫內輸入。 &M?b08
3. 可分析傳統照明的場角分佈或輻照度分佈。 k0V]<#h87
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汽車產業: @Drl5C}+
1. 可執行多重反射面分析,可用於車燈反射罩的設計。 9;7"S.7AV
2. 具有龐大的光源庫與燈泡庫,包含HID、LED、螢光燈與白熾燈等可供使用。 :~8@fEKb{
3. 車內抬頭顯示器(HUDs)的分析應用,如模擬鬼影和炫光。 06AgY0\
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成像系統: A8mc+ Bf(
1. 使用非序列性描光方式精確計算透鏡系統的雜散光行為,並可模擬物件表面的入射、吸收與能量損失。 ]m 3cm
2. 可模擬多層鍍模的光學性質。 de W1>yh^_
3. 可匯入主流光學透鏡分析軟體(如OSLO、Code V等)的透鏡設定檔。 6?M/71
4. 使用重點取樣(importance sampling)功能來過濾散射傳播路徑,來增加天文望遠鏡或飛彈系統中光線到達感光器的樣本數。 5"57F88Y1
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生醫產業: y-.{){uaD
1. 可定義相位函數,模擬光線在人體組織中的影響。 y$-@|M$GG
2. 可使用人體組織資料庫,可方便地建立人體組織之模型。 eJ45:]_%I@
3. 可分析體散射效應,並可使用體通量觀測器來監看能量於組織內的傳遞過程。 sNpA!!\PM
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航空國防產業: -n|>U:
1. 可監看分析中每一條光線的傳播路徑,及光學表面上的偏振狀態、光通量、入射位置、分量及光徑。 iLBORT!;
2. 可建立非等向性的表面材料參數,例如入射方向、散射方向、波長及溫度等參數。 ER9{D$
3. 可模擬黑體或灰體的輻射光源。 r?[[.zm"7
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消費性電子產業: xf;>o$oN0P
1. TracePro接受SAT、STEP與IGES幾何檔案格式,可由主流CAD軟體匯入設計模型。 ZPE-
2. 設計初期便可藉由TracePro精確評估光學效果,避免或減少製作產品原型的成本支出。 .E^w, o
3. 完整的光頻分析功能,並可以用人眼主觀感受的方式描繪出光學分析結果。 T<Xw[PEnP
4. 完整的光源定義方式,包含格點光源、表面光源、黑體輻射及檔案光源。 $[`rY D/.
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TracePro模組介紹: P]^OSPRg
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1. 分析模型的數量有所限制,模型物件上限為35個,光源物件為10個。 {~9HJDcM
2. 可以考慮反射與折射之光學特性。 |0}Xb|+
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Standard: r@r*|50
1. 可自由定義模型物件與光源物件的外型。 !$1qnsz
2. 可以考慮反射、透射、漸變折射、雙向散射、體散射、光學薄模及偏振材料等光學特性。 AC
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3. 可完整定義光源特性,包含格點光源、表面光源、黑體輻射及檔案光源。
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4. 可使用重點採樣(importance sampling)技術對隨機光線標定出有效的光線。 GO2q"a
5. 使用Irradiance/Illuminance Map、Candela Plot、Polarization Map、Incident Ray Tables與Incident Ray Tables等方式進行後處理的視覺化輸出。 .GJbrz
6. 具有客制化能力,可利用scheme或VB語言來執行巨集指令(Macro)。 WynTU?
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Expert: 0|-}>>qb\
1. 擁有所有Standard的功能。 iB
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2. RepTile功能,應用於具有龐大數量的重複性微結構建模,非常適合應用於LCD背光版的模擬分析。 U`3?bhzua
3. 可求算螢光粉的激光模擬。 v4Ag~Evcx
4. 可考慮雙折射參數與非對稱的散射材料參數。 j~\FDcG*ed
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TracePro Bridge for SolidWorks: M x,5
將TracePro嵌入SolidWorks的使用環境,建模及光學材質的操作與定義全在SolidWorks中完成。可更有效率的執行光學—機構設計流程。 C TG^lms
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世界知名光學機構模擬分析軟體─TracePro '+$r7?dKP
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重要特色介紹: )vOBF5
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TracePro是一套功能強大、準確可靠、介面友善、易學易用的光線追跡模擬軟體,專門作為照明設計或是光學機構設計之用。TracePro可以進行光學成像分析、輻照度分析及人眼視覺成像分析等,幾乎涵蓋所有光線追跡上的問題。 WLU_t65
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TracePro擁有完整成熟的視窗介面,其直覺友善的設計架構,可以非常快速地讓使用者熟悉軟體的操作。TracePro使用ASIC實體繪圖引擎作為其CAD的運算核心,能輕易地新建或匯入光學模擬所需的固體模型。目前主流的CAD軟體均有支援ACIS規格(SAT檔),故其幾何轉檔上的相容性極高。另外,TracePro亦可支援IGES、STEP及STL的幾何檔案格式。亦可匯入鏡頭設計檔案(如OSLO、Code V、ZEMAX、ACCOS V及Sigma)做後續光線追跡之用。TracePro獨家研發的RepTile功能,可方便地建構重複性的光學零組件,特別像是LCD的背光模組導光板上的網點結構設計,可以大幅減低建模時間,加速產品的開發生產時程。 :
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TracePro的光線追跡的運算核心屬於非序列性描光(Non-Sequential Ray Tracing),除了可以自行建立光源與幾何物體的材料屬性外,亦可使用內建的光源及材料資料庫來執行光學材料的設定。TracePro可以同時或個別考慮反射、折射、吸收、雙向散射(BSDF)、體散射(bulk scatter)、漸變折射(gradient index)、光學薄膜(thin film stack)、螢光粉(Fluorescence)及偏光膜(polarization)等光學材料行為。搭配Monte Carlo的統計採樣計算方式,其光線追跡的結果十分可靠,能夠準確地預測光學行為。 9.dZA9l@g
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在分析結果後處理的部分,TracePro提供了Irradiance/Illuminance Map、Candela Plot、Polarization Map與Incident Ray Tables等方式可以進行後處理的視覺化輸出,並可以匯出該結果作為儲存或資料交換之用,有助於企業累積其產品知識。 T;Kv<G;
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TracePro是一套與機構設計軟體可以快速而輕易接軌的光學分析軟體,能顯著提升企業對產品開發創新的能力;而其準確可靠的分析能力,使其在全球與台灣的市場佔有率都非常的傑出,並為各項產業廣泛地使用,其實際相關的應用範疇包括: aDz%
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顯示器產業: rLD1Cpeb,w
1. 可進行背光模組內網點的輻照/光照分析。 jl7>
2. 可模擬背光模組內偏振光的行為,可考慮膜層的入射角、波長與溫度等,來定義偏光性質。 9fbo
3. 可進行增亮膜的光場分析。 )2W7>PY
4. 可同時分析不同光波長的環境,得到CIE/色彩結果。 &-NGVPk81`
5. 可分析雙折射效應,包括分光到一般向量或特定向量。 4?(=?0/[
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LED光源照明產業: %CQa8<q
1.可進行二次光學的設計驗證與分析模擬。 nw*a?$S3
2. 可進行螢光粉激光效應的模擬。 q2B'R
3. 可模擬LED多重光源的混光結果。 c+ZdfdR
4. 可模擬LED的照明系統。 TGG=9a]m
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傳統光源照明產業: SI6?b1;-:F
1. 超過200個以上的工業標準燈泡庫、包含Philips與Osram兩大品牌。 /P[u vO
2. 可將實驗量測的光源,定義為檔案光源,或由Radiant imaging燈泡庫內輸入。 \[]BB5)8
3. 可分析傳統照明的場角分佈或輻照度分佈。 8KR17i1
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汽車產業: 4M>]0%3.D
1. 可執行多重反射面分析,可用於車燈反射罩的設計。 <uoVGV5N
2. 具有龐大的光源庫與燈泡庫,包含HID、LED、螢光燈與白熾燈等可供使用。 9@M;\ @&g
3. 車內抬頭顯示器(HUDs)的分析應用,如模擬鬼影和炫光。 ""V\hHdp
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成像系統: ~QE?GL
1. 使用非序列性描光方式精確計算透鏡系統的雜散光行為,並可模擬物件表面的入射、吸收與能量損失。 Ygfy;G%
2. 可模擬多層鍍模的光學性質。 SJ8
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3. 可匯入主流光學透鏡分析軟體(如OSLO、Code V等)的透鏡設定檔。 [UdJ(cGf
4. 使用重點取樣(importance sampling)功能來過濾散射傳播路徑,來增加天文望遠鏡或飛彈系統中光線到達感光器的樣本數。 `tH F}
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生醫產業: %dmQmO,
1. 可定義相位函數,模擬光線在人體組織中的影響。 Mp5Z=2l5
2. 可使用人體組織資料庫,可方便地建立人體組織之模型。 5D^2
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3. 可分析體散射效應,並可使用體通量觀測器來監看能量於組織內的傳遞過程。 gHL:XW^
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航空國防產業: i-95>ff
1. 可監看分析中每一條光線的傳播路徑,及光學表面上的偏振狀態、光通量、入射位置、分量及光徑。 n*AN/LBp
2. 可建立非等向性的表面材料參數,例如入射方向、散射方向、波長及溫度等參數。 HsG3s?*
3. 可模擬黑體或灰體的輻射光源。 )TNG0[
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消費性電子產業: %&'[? LXD
1. TracePro接受SAT、STEP與IGES幾何檔案格式,可由主流CAD軟體匯入設計模型。 Xe
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2. 設計初期便可藉由TracePro精確評估光學效果,避免或減少製作產品原型的成本支出。 r5lPO*?Df
3. 完整的光頻分析功能,並可以用人眼主觀感受的方式描繪出光學分析結果。 (LVzE_`
4. 完整的光源定義方式,包含格點光源、表面光源、黑體輻射及檔案光源。 X*)DpbWd
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TracePro模組介紹: 8RZqoQDH
LC: FYg{IKg
1. 分析模型的數量有所限制,模型物件上限為35個,光源物件為10個。 T}'*Gry
2. 可以考慮反射與折射之光學特性。 \3rgwbF
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Standard: w0.;86<MV
1. 可自由定義模型物件與光源物件的外型。 H7 {kl
2. 可以考慮反射、透射、漸變折射、雙向散射、體散射、光學薄模及偏振材料等光學特性。 o8A(Cg}
3. 可完整定義光源特性,包含格點光源、表面光源、黑體輻射及檔案光源。 "GxQ9=Z
4. 可使用重點採樣(importance sampling)技術對隨機光線標定出有效的光線。 tg2+Z\0)4g
5. 使用Irradiance/Illuminance Map、Candela Plot、Polarization Map、Incident Ray Tables與Incident Ray Tables等方式進行後處理的視覺化輸出。 )4GCL(&
6. 具有客制化能力,可利用scheme或VB語言來執行巨集指令(Macro)。 \gir
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Expert: ,F|49i.K
1. 擁有所有Standard的功能。 8hX/~-H
2. RepTile功能,應用於具有龐大數量的重複性微結構建模,非常適合應用於LCD背光版的模擬分析。 \VAS<?3
3. 可求算螢光粉的激光模擬。 %wq;<'W
4. 可考慮雙折射參數與非對稱的散射材料參數。 &x[V<Gq
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