!pgkUzMW lbMb 膜裂一般是由应力产生的,一般来讲,张力会造成膜裂。
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*>$6H; 而在常温下,SiO2表现为张力,TiO2表现为压力。
-(dc1?COi 所以按原理来讲,第一层镀TiO2对膜裂的改善会比较好。
+Bgy@.a? x5s Yo\ 而且从附件论文的数据来看,开IAD比不开要好。
v. !L:1@I. t!v#rn[ 但是如果膜裂是由吸水造成的,那又是另外一种情况。
GC.
最好用卤素灯加热一下,镀膜前再离子源打一下做一下表面的清洁。
4~DoqT 只要不超过90度是没什么问题的。
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