[培训]薄膜设计与镀膜工艺线下课程 [复制链接]

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[font=arial,  ][font=wingdings  ] [font=arial,  ][font=宋体  ]时间地点[font=arial,  ][font=宋体  ][font=arial,  ] y\#o2PVmY  
[font=arial,  ][font=宋体  ]主办单位[font=arial,  ][font=宋体  ]：讯技光电科技（上海）有限公司（微信公众号：讯技光电[font=times new roman  ]INFOTEK[font=宋体  ]）[font=arial,  ][font=arial,  ] y"-{$N  
[font=arial,  ][font=宋体  ]苏州黉论教育咨询有限公司（微信公众号：[font=times new roman  ]honglun-seminary[font=宋体  ]）[font=arial,  ][font=arial,  ] C`0%C7  
[font=arial,  ][font=宋体  ]课程时间：[font=arial,  ][font=宋体  ] [font=arial,  ][font=times new roman  ]2026/12/4[font=宋体  ]（四）[font=times new roman  ]-12/6[font=宋体  ]（日）[font=arial,  ][font=arial,  ] \5hw9T&[B  
[font=arial,  ][font=宋体  ]课程[font=arial,  ][font=宋体  ]地点[font=arial,  ][font=宋体  ]：[font=arial,  ][font=宋体  ]上海讯技[font=arial,  ][font=arial,  ] /PqUXF  
[font=arial,  ][font=宋体  ]课程讲师[font=arial,  ][font=宋体  ]：讯技光电工程团队成员[font=arial,  ][font=arial,  ] BC({ EE~R)  
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[font=arial,  ][font=wingdings  ] [font=arial,  ][font=宋体  ]课程简介：[font=arial,  ][font=宋体  ][font=arial,  ] YBvd q1  
[font=arial,  ][font=宋体  ]随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。[font=arial,  ][font=宋体  ][font=arial,  ] :!O><eQw  
[font=arial,  ][font=宋体  ]本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。[font=arial,  ][font=宋体  ][font=arial,  ] ZoxS*Xk  
[font=arial,  ][font=宋体  ]    [font=arial,  ][font=宋体  ]易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。[font=arial,  ][font=宋体  ][font=arial,  ] X`1p'JD  
[font=arial,  ][font=calibri  ][font=arial,  ] -NzTqLBn
 
[font=arial,  ][font=wingdings  ] [font=arial,  ][font=宋体  ]课程大纲：[font=arial,  ][font=宋体  ][font=arial,  ] \XS]N_}8>  
[font=arial,  ][font=times new roman  ]1.[font=arial,  ]Essential Macleod[font=宋体  ]软件介绍[font=arial,  ][font=arial,  ] \Yq0 zVol  
[font=arial,  ]1.1 [font=宋体  ]介绍软件[font=arial,  ][font=arial,  ] l3p3tT3+  
[font=arial,  ]1.2 [font=宋体  ]创建一个简单的设计[font=arial,  ][font=arial,  ] -!TcQzHUs  
[font=arial,  ]1.3 [font=宋体  ]绘图和制表来表示性能[font=arial,  ][font=arial,  ] 2.f|2:I  
[font=arial,  ]1.4 [font=宋体  ]通过剪贴板和文件导入导出数据[font=arial,  ][font=arial,  ] v459},!P  
[font=arial,  ]1.5 [font=宋体  ]可用的材料模型（[font=times new roman  ]Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann[font=宋体  ]）[font=arial,  ][font=arial,  ] x: ~d@  
[font=arial,  ]1.6 [font=宋体  ]特定设计的公式技术[font=arial,  ][font=arial,  ] U5<@<j(@  
[font=arial,  ]1.7 [font=宋体  ]交互式绘图[font=arial,  ][font=arial,  ] Dtt-|_EMS  
[font=arial,  ][font=times new roman  ]2.[font=arial,  ][font=宋体  ]光学薄膜理论基础[font=arial,  ][font=arial,  ] +"uwV1)b"  
[font=arial,  ]2.1 [font=宋体  ]垂直入射时的界面和薄膜特性计算[font=arial,  ][font=arial,  ] =dGKF`tR  
[font=arial,  ]2.2 [font=宋体  ]后表面对光学薄膜特性的影响[font=arial,  ][font=arial,  ] fY_%33_I$  
[font=arial,  ]3. [font=宋体  ]材料管理[font=arial,  ][font=arial,  ] E>}q2  
[font=arial,  ]3.1 [font=宋体  ]材料模型[font=arial,  ][font=arial,  ] c~+l-GIWm  
[font=arial,  ]3.2 [font=宋体  ]介质薄膜光学常数的提取[font=arial,  ][font=arial,  ] 3dG4pl~  
[font=arial,  ]3.3 [font=宋体  ]金属薄膜光学常数的提取[font=arial,  ][font=arial,  ] _|<BF  
[font=arial,  ]3.4 [font=宋体  ]基板光学常数的提取[font=arial,  ][font=arial,  ] ]"sRS`0+  
[font=arial,  ]4. [font=宋体  ]光学薄膜设计优化方法[font=arial,  ][font=arial,  ] 2-mQt_ i  
[font=arial,  ]4.1 [font=宋体  ]参考波长与[font=times new roman  ]g[font=arial,  ][font=arial,  ] tD-gc''H  
[font=arial,  ]4.2 [font=宋体  ]四分之一规则[font=arial,  ][font=arial,  ] |I^y0Q:K  
[font=arial,  ]4.3 [font=宋体  ]导纳与导纳图[font=arial,  ][font=arial,  ] Spgg+;9  
[font=arial,  ]4.4 [font=宋体  ]斜入射光学导纳[font=arial,  ][font=arial,  ] 6Z8l8:r-6  
[font=arial,  ]4.5 [font=宋体  ]光学薄膜设计的进展[font=arial,  ][font=arial,  ] fxtxu?A>  
[font=arial,  ]4.6 Macleod[font=宋体  ]软件的设计与优化功能[font=arial,  ][font=arial,  ] 85z;Zt
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[font=arial,  ]4.6.1 [font=宋体  ]优化目标设置[font=arial,  ][font=arial,  ] I4ilR$jg  
[font=arial,  ]4.6.2 [font=宋体  ]优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）[font=arial,  ][font=arial,  ] KlUqoJ;"  
[font=arial,  ]4.6.3 [font=宋体  ]膜层锁定和链接[font=arial,  ][font=arial,  ] Ttv'k*$cP  
[font=arial,  ]5. [font=宋体  ]光学薄膜系统设计与分析案例与应用[font=arial,  ][font=arial,  ] x=,8[W#XT  
[font=arial,  ]5.1 [font=宋体  ]减反射薄膜[font=arial,  ][font=arial,  ] 2B` 8
eb  
[font=arial,  ]5.2 [font=宋体  ]分光膜[font=arial,  ][font=arial,  ] ^i`*Wm@!  
[font=arial,  ]5.3 [font=宋体  ]高反射膜[font=arial,  ][font=arial,  ] &fSTR-8ev#  
[font=arial,  ]5.4 [font=宋体  ]干涉截止滤光片[font=arial,  ][font=arial,  ] ?N>pZR  
[font=arial,  ]5.5 [font=宋体  ]窄带滤光片[font=arial,  ][font=arial,  ] .pvxh|V  
[font=arial,  ]5.6 [font=宋体  ]负滤光片[font=arial,  ][font=arial,  ] ^>m^\MuZ  
[font=arial,  ]5.7 [font=宋体  ]非均匀膜与[font=times new roman  ]Rugate[font=宋体  ]滤光片[font=arial,  ][font=arial,  ] gs`> C(  
[font=arial,  ]5.8 [font=宋体  ]仿生蛾眼[font=times new roman  ]/[font=宋体  ]复眼结构[font=arial,  ][font=arial,  ] 54q3R`y  
[font=arial,  ]5.9 [font=宋体  ]颜色膜[font=arial,  ][font=arial,  ] (WE,dY+.  
[font=arial,  ]5.10 Vstack[font=宋体  ]薄膜设计示例[font=arial,  ][font=arial,  ] wiE]z  
[font=arial,  ]5.11 Stack[font=宋体  ]应用范例说明[font=arial,  ][font=arial,  ] ;'3]{BGcU  
[font=arial,  ]6. [font=宋体  ]薄膜性能分析[font=arial,  ][font=arial,  ] T"!EK&  
[font=arial,  ]6.1 [font=宋体  ]电场分布[font=arial,  ][font=arial,  ] p)/ p!d[T/  
[font=arial,  ]6.2 [font=宋体  ]公差与灵敏度分析[font=arial,  ][font=arial,  ] ^,V[nfQR  
[font=arial,  ]6.3 [font=宋体  ]反演工程[font=arial,  ][font=arial,  ] o.^y1mH'  
[font=arial,  ]6.4 [font=宋体  ]均匀性，掺杂[font=times new roman  ]/[font=宋体  ]孔隙材料仿真[font=arial,  ][font=arial,  ] bx>i6 R2  
[font=arial,  ]7. [font=宋体  ]真空技术[font=arial,  ][font=arial,  ] a)9
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[font=arial,  ]7.1 [font=宋体  ]常用真空泵介绍[font=arial,  ][font=arial,  ] DB@EVH  
[font=arial,  ]7.2 [font=宋体  ]真空密封和检漏[font=arial,  ][font=arial,  ] 3hS6jS  
[font=arial,  ]8. [font=宋体  ]薄膜制备技术[font=arial,  ][font=arial,  ] A*'V+(  
[font=arial,  ]8.1 [font=宋体  ]常见薄膜制备技术[font=arial,  ][font=arial,  ] CgnXr/!L  
[font=arial,  ]9. [font=宋体  ]薄膜制备工艺[font=arial,  ][font=arial,  ] c3k|G<C2  
[font=arial,  ]9.1 [font=宋体  ]薄膜制备工艺因素[font=arial,  ][font=arial,  ] d+}kg  
[font=arial,  ]9.2 [font=宋体  ]薄膜均匀性修正技术[font=arial,  ][font=arial,  ] AuCWQ~  
[font=arial,  ]9.3 [font=宋体  ]光学薄膜监控技术[font=arial,  ][font=arial,  ] A1A3~9HuK  
[font=arial,  ]10. [font=宋体  ]激光薄膜[font=arial,  ][font=arial,  ] U8O(;+  
[font=arial,  ]10.1 [font=宋体  ]薄膜的损伤问题[font=arial,  ][font=arial,  ] &iSD/W  
[font=arial,  ]10.2 [font=宋体  ]激光薄膜的制备流程[font=arial,  ][font=arial,  ] "s]y!BLk  
[font=arial,  ]10.3 [font=宋体  ]激光薄膜的制备技术[font=arial,  ][font=arial,  ] Z@J.1SaB  
[font=arial,  ]11. [font=宋体  ]光学薄膜特性测量[font=arial,  ][font=arial,  ] jvs[ /  
[font=arial,  ]11.1 [font=宋体  ]薄膜光谱测量[font=arial,  ][font=arial,  ] qI2'u%  
[font=arial,  ]11.2 [font=宋体  ]薄膜光学常数测量[font=arial,  ][font=arial,  ]
FC}oL"kk  
[font=arial,  ]11.3 [font=宋体  ]薄膜应力测量[font=arial,  ][font=arial,  ] O3%[dR  
[font=arial,  ]11.4 [font=宋体  ]薄膜损伤测量[font=arial,  ][font=arial,  ] Np)aS[9W  
[font=arial,  ]11.5 [font=宋体  ]薄膜形貌、结构与组分分析[font=arial,  ]   iZ;TYcT  
[font=arial,  ][font=微软雅黑  ][font=arial,  ][font=微软雅黑  ][font=arial,  ] >.LKct*5K  
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