利用玻璃光刻掩模制作了Ni电铸型，并采用特有的的树脂材料制备了图案介质（技术基于纳米压印工艺 ），使用半导体工艺进行制造图案。 'u;O2$
优势： v /c]=/
1.传统注塑成型工艺的透镜和玻璃研磨的透镜中的光学零件的画不能长期小型化和降低成本。 ,:A;4
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2.通过纳米印花成型的数十纳米-数μm尺寸的图案具有高性能功能平板镜头使用有机-无机材料，耐热性也高。 BB(6[V"SV
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3.与传统半导体工艺（光刻蚀刻）相比，纳米喷流技术的量产性要高得多。 p\ ;| Z+0=
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4.在材料中混合特殊矿物还可提高IR区域的透射率。 o5? Y
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实现低成本。 dM^Z,; u
