摘要 '1lz`CAB+ ^Uldyv/ 光学各向异性,也被称为双折射,是产生各种光学现象及其相关应用的原因。
VirtualLab Fusion提供了一种快速和严格的场跟踪分析算法,该算法应用于S矩阵求解器,并工作在k域。在本应用案例中,介绍了各向异性介质的基本配置。
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>SS97 9 Lf,C50 目录中的各向异性介质 .Zx7+`i ks8x xY
,`( Qs7)Xx 1k)`C<l 定义各向异性介质 r+nhm"9 双轴
晶体由三个方向的主
折射率定义;
af/;D r@ 单轴晶体由o折射率和e折射率定义;
H"rIOoxf 一般各向异性介质可以通过直接定义介电常数张量建立。
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t:k? 各向异性介质预览 (XQl2C p{JE@TM p|=0EWo4U 预配置晶体 M5B?`mTl T)cbpkH4 VitualLab Fusion提供了一系列预设的晶体介质,可以从介质(Media)目录中访问。用户还可以在目录中导入和导出自定义的介质。
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a@Y< 各向异性涂层 -\~x^5K T( bFn? 各向异性涂层可以在涂层(coating)目录中找到,并应用于VirtualLab Fusion的所有光学表面。
O:X|/g0Y 各向异性晶体板 Il#9t?/ r)Iq47Uiw 4Bq4d.0 各向异性分层介质组件 jF%l\$)/ +|Qe/8Q -MeO|HWm 各向异性表面 y7#vH<
j*1O(p+ xw rleB 波片计算器 -cWxS{vO M{~KT3c 晶体板组件(Crystal Plate Component)和主窗口的计算器模块(Calculators)允许访问波片计算器,它可用于确定具有给定特性的波片的厚度和相位延迟。