切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 135阅读
    • 0回复

    [技术]微透镜阵列后光传播的研究 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7032
    光币
    29305
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 07-10
    1. 摘要 j~FD{%4N  
    J@OB`2?Zv  
    随着光学投影系统和激光材料加工单元等现代技术的发展，对光学器件的专业化要求越来越高。微透镜阵列正是这些领域中一种常用元件。为了充分了解这些元件的光学特性，有必要对微透镜阵列后各个位置的光传播进行模拟。在这个应用案例中，我们将分别研究元件后近场、焦区以及远场特性。 zLF?P3^  
    MSV2ip3  
     hRq3C1 mR  
    (%U@3._  
    2. 系统配置 .cR -V`  
    UThB7(O,  
     JKX_q&bUw  
    e#B#B  
    3. 系统建模模块-组件 wQ%mN[  
    @o-B{ EH8  
     -_<}$9lz  
    vA X|hwn;  
    4. 总结—组件…… b]7GmRekl  
    j+^oz'q  
     de]zT^&C  
    #_B-4sm  
    仿真结果 P1zdK0TM  
     4pln5v=  
    1. 场追迹结果—近场 i@][rdhT  
    h1(j2S`:  
    c)Ic#<e(  
    gh>>Ibf  
    IQ!\w-  
    2. 场追迹结果—焦平面 :=9] c17=  
    ex<O]kPFE  
     ~Aq5X I%i  
    4HAp{a1  
    3. 场追迹结果—远场 vm'5s]kdh  
    m{7^EF  
    )?2e  
    ](B@5-^  
    4. 文件信息 #UtFD^h  
    zFQ&5@43  
    fgj^bcp-  
    x'zBK0i  
    BI:k#jO!  
    KIeT!kmDl  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表