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摘要 bRggt6$z sw9ri}oc 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 n+
H2cl } U
`lp56
0OlT^ P\@kqf~pC 任务说明 zv"NbN {.U:Ce UOj*Gt& aQHR=.S]X 简要介绍衍射效率与偏振理论 k v_t6 (qd 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 h143HXBi1+ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: N*[b26 \R9izuc9 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 3;jxIo$, 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: %INkuNa8\ e)s
l 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 @[v,q_^8 J3'q.Pc 光栅结构参数 k{{
Y2B?C 研究了一种矩形光栅结构。 >tkz%;6 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 ,yp#!gE~ 根据上述参数选择以下光栅参数: u)zv`m 光栅周期:250 nm `'3&tAy 填充因子:0.5 xVYa-I[Z 光栅高度:200 nm G]$EIf' 材料n_1:熔融石英(来自目录) >Q_
'[!S 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 48S
NI "J*>g(H53 ?v:FGO }l} _'FmQ
偏振态分析 gB%"JDn8 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 _PGd\>Ve 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 UlNiH 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 -Ju;i< sZ7,7E|_ CY.92I@S EUh_`R 模拟光栅的偏振态 2 ( I4h[ :+w6i_\d5
mJ(ElDG hi(e%da 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: eB_r.R{ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 raSga'uT; 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 0 ;)Q 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 gH,Pz 0Ntvd7"`} Passilly等人更深入的光栅案例。 gm-9 oA
X Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 $;$vcV9* 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 _iDVd2X"H 9
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yJ]Va $M >z/.8!#Q 光栅结构参数 LXJ;8uW2y 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 F&+qd`8J 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 t,r:=' 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 GL-b})yy 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 k'
Fu&r
rH,@"(p\ tcRJ1:d 光栅#1——参数 G; W2Z, 假设侧壁倾斜为线性。 TF!v ,cX 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 G9am}qr 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 bWlYQ
光栅周期:250 nm [MKG5=kaE 光栅高度:660 nm <]DUJuF-M 填充因子:0.75(底部) |*b-m k 侧壁角度:±6° $%M]2_W( n_1:1.46 hosY`"X n_2:2.08 1tI=Dwx yH43Yo#Rk
l\Ww^ '3sySsD&O 光栅#1——结果 .m\0<8C 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 KZ#\ > 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 =O8>[u; Ya!%o> J%t
k.c.7%|~; .,#H]?Wil 光栅#2——参数 );q~TZ[Do 假设光栅为矩形。 eV(9I v[ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 KUm?gFh 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 goF87^M 光栅周期:250 nm 34N~<-9AY 光栅高度:490 nm Ok\X%avq 填充因子:0.5 1iLU{m9 n_1:1.46 f{[0;qDJ n_2:2.08 `]@=Hx( (C).Vj~ 5F
^VvzNn gGM QRRq 光栅#2——结果 1 JIU5u) 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 +w?R4Sxjn 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 tk=S4/VWv :Y1;= W pz)>y&_o ZE_ 文档信息 v3XM-+Z4 0x]?rd+q8Q
V?wV*]c uZJfIC<>
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