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摘要 14Jkr)N i"y @Aj!7 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 KQrG|<J `c_Wk]i
j1$s^ -9 ]A:G>K 任务说明 }xy[&-dh Ykj+D7rA: )>^!X$`3 D +9l$**a 简要介绍衍射效率与偏振理论 K!SFS 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 H*EN199 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: +zsB ~Vz (yhnv Z 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 p!~V@l 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: :.fm LL 8Nf%<nUv 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Sa$-Yf vHx[:vuq: 光栅结构参数 b(:U]>J 研究了一种矩形光栅结构。 0\yA6`}! 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 A>J,Bi 根据上述参数选择以下光栅参数: [Xo[J?w],2 光栅周期:250 nm g,5Tr_ 填充因子:0.5 f5&K=4khn 光栅高度:200 nm B["C~aF 材料n_1:熔融石英(来自目录) %pImCpMR 材料n_2:二氧化钛(来自目录) &BJ"T .L}k-8 V82N8-l c`_[q{(^m 偏振态分析 qgw)SuwW 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 qv$m5CJvK 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 O3["5 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 GC^>oF [I5}q& aO$I|!tl o)
,1R: 模拟光栅的偏振态 h_K!ch} z[0B"f
4jdP3Q/ ,ftKRq 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 78/,rp#'_ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 RD0=\!w *5 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 =2.q=a|' 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 |'N)HH>; qjmlwVw Passilly等人更深入的光栅案例。 ,\=,,1_ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 L/2,r*LNx$ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 o==:e cCbZ*
%oHK=],|1 |WDMyKf6J 光栅结构参数 S!+}\* 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 MC;2.e` 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 KetNFwbUf 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 :pvJpu$] 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 fKOC-%w
z6;6 o!ej ~l"]J'jF"H 光栅#1——参数 b,uudtlH 假设侧壁倾斜为线性。 ![9umsx 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ]YWz;Z 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 Wg!JQRHtT 光栅周期:250 nm 2nkymEPu
光栅高度:660 nm I> BGp4 AQ 填充因子:0.75(底部) Lv m"!! 侧壁角度:±6° =a^}]k} n_1:1.46 =C 7 WQ n_2:2.08 ?Es(pwJB
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`R6dnbH uJ
T^=Y 光栅#1——结果 X)b@ia'"Wp 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 sFV&e->AN\ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Zi=/w lgQ"K(zY
"kd)dy95H &$g{i:)Z 光栅#2——参数 W!t =9i 假设光栅为矩形。 yXT8:2M 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 F(KsB5OY? 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 9wbj}tN\z 光栅周期:250 nm cB=ExD.Q 光栅高度:490 nm O_\%8*; 填充因子:0.5 ?/|KM8 n_1:1.46 {ep(_1 n_2:2.08 cp$GP*{@ MUn(ZnQy| ~sT1J| WT63ve 光栅#2——结果 75^AO>gt
这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 6|n3e,&A2 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 5y8VA4L/o g5:?O,? U*4r<y9R Q>(a JF 文档信息 S`8Iu[Ma "fu:hHq
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