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摘要 'zT7$ .L M"u=)CT 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 oIIi_yc B4+c3M\$V
5 wN)N~JE :`"-Jf 任务说明 8m
`Y pS7y3(_ <w8H[y"c @H(7Mt 简要介绍衍射效率与偏振理论 aRI. &3- 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 $=^}J6 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: (nuTfmt> @T>^
> 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 R~hIo aiN 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: _^zs( ~|ZAS] 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 H1KXAy`& M(C}2.20 光栅结构参数 )hoVB 研究了一种矩形光栅结构。 6"}F
KRR 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 7Q~W}`Qv' 根据上述参数选择以下光栅参数: KM"?l<x0Y 光栅周期:250 nm i.?rom 填充因子:0.5 qs_cC3"=%= 光栅高度:200 nm *8yC6|wL? 材料n_1:熔融石英(来自目录) A=e1uBGA 材料n_2:二氧化钛(来自目录) F{.g05^y *-q&~ ^nOh8L; O*,O]Q 偏振态分析 ZC<EPUV( 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 f4NN?"W) 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 D;+Y0B 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ncOl}\Q9 yT7{,Z7t p-rQ'e 48G^$ T{ 模拟光栅的偏振态 XbFo#Pwk `022gHYv
/~fu,2=7 ,nP nH1vb 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: (I>S qM
Y 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 -O/[c 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 )-}<}< oO 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 M\IdQY-c Xqew~R^MP Passilly等人更深入的光栅案例。 U-f8D Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 SNSoV3|k- 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 *p0n^XZ% ? ]rg-=Y k
4 EA$<n(A- ~G6xk/+n-m 光栅结构参数 |q\i, } 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 qvhG^b0h 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
z{V#_( 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 YWV)C?5x& 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ?@Tsd@s~r
a_b+RMy !A|}_K1Cr 光栅#1——参数 $`0,N_C<} 假设侧壁倾斜为线性。 vQ$"|8, 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 =i7CF3 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 Nr]guC? rE 光栅周期:250 nm CR#-!_=4 光栅高度:660 nm $,I@c"m{ 填充因子:0.75(底部) ;4v`FC> 侧壁角度:±6° $!z .[GL n_1:1.46 >^<;;8Xh n_2:2.08 A
L|,\s 0 EA3>$;
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dtz1 "tpD -> 光栅#1——结果 X;vUz 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Lc-WfzT 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 S'@Ok=FSy 4`RZ&w;1H2
vJx( lU`Y |B^Picu 光栅#2——参数 tBsvi%F 假设光栅为矩形。 l%yQ{loTh 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 6bf!v 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 j4=\MK 光栅周期:250 nm >29c[O"[ 光栅高度:490 nm _Ii=3Qsf 填充因子:0.5 ZHoYnp-~z n_1:1.46 Uhyf n_2:2.08 0+e0<' F6h IG G qpa}6JVQ+j a785xSUV 光栅#2——结果 i?mUQ'H 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Rdj^k^V+a1 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 AkO-PL 6_tl_O7 Q yQ[H /Vx
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