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    [技术]分层介质组件 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 05-12
    摘要                                           GN>T }  
    R]r~TJ o  
    分层介质组件旨在对一系列平面图层进行严格而快速的分析,其中每个平面图层后面都是均质(各向同性或各向异性)介质。这种配置在例如涂层应用中特别令人感兴趣。在这个用例中,我们展示了如何在VirtualLab Fusion中定义这样的结构,并深入探讨了它的特性。 {<]abO  
    I@z{G r  
    M.128J+xfS  
    <e=0J8V8,i  
    在哪里可以找到组件?  t]vz+VQ  
    |MRxm"]A   
    分层介质组件可以在Components > Single Surface & Coating下找到。 gVD!.  
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    结构的配置 $:xUXEi{  
    i$F)h<OU+  
    SEuj=Vie#  
    V]<dh|x  
    由涂层定义 =uvv|@Z  
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    95+}NJ;r  
    涂层输入 bWyXDsr+  
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    S\f^y8*<  
    jt]+(sx  
    图层序列的方向 z;3}GxE-si  
    ~pw_*AN  
                                          
    ,fN iZ  
    rLVAI#ci=  
    中后图层结构 u ) ld  
    ?ph"|LyL  
                        
    ^]v}AEcmW  
    Jsw<,uT D  
    图层矩阵求解器                                 EU\1EBT^  
    IGp-`%9  
    分层介质组件使用图层矩阵电磁场解算器。该解算器在空间频率域(k-domain)中工作。它包括 Z c"]Cv(  
    1. 每个均匀图层的本征模解算器和 `  ^6}Dn  
    2. 匹配所有界面边界条件的S-矩阵。 /TB_4{  
    本征模解算器计算各图层中均匀介质在k域中的场解。S-矩阵算法通过递归方式匹配边界条件来计算整个图层系统的响应。这是一种众所周知的无条件数值稳定性方法,因为与传统的传递矩阵不同,它避免了计算步骤中的指数增长函数 CHLMY}O0  
    INkrG.=u  
    Ii K&v<(]  
    s$]I@;_  
    文件信息                                           aE;!mod  
    m\VJ=  
    -Rf|p(SJ,E  
    ]]]7"a  
    进一步阅读 ~\Ynih  
    - Effects of Mirror Coating on Pulse Characteristics # AY+[+  
    - Absorption in a CIGS Solar Cell
     
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