摘要 P1|3%#c #k,.xMJ~ 分层介质组件旨在对一系列平面图层进行严格而快速的分析,其中每个平面图层后面都是均质(各向同性或各向异性)介质。这种配置在例如涂层应用中特别令人感兴趣。在这个用例中,我们展示了如何在
VirtualLab Fusion中定义这样的
结构,并深入探讨了它的特性。
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^FZ9q OyG2Ks"H 在哪里可以找到组件? iDdR-T| Y Azj>c& 分层介质组件可以在Components > Single Surface & Coating下找到。
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Hm+VGH'H? =&~ K;=: 结构的配置 Q]OR0-6<.
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2hV 由涂层定义 qHPinxewx
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Z_>:p^id !e+Sa{X 涂层输入 Nw%^Gs<~
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-![{Zb@ U*XdFH}vV 图层序列的方向 N|8^S
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iH>b"H> h!tg+9% 中后图层结构 ]#7baZ
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XW+-E^d :*-O;Yw?S@ 图层矩阵求解器 Nh !U 5i'KGL 分层介质组件使用图层矩阵电磁场解算器。该解算器在空间频率域(k-domain)中工作。它包括
i_nUyH%b 1. 每个均匀图层的本征模解算器和
bNHsjx@ 2. 匹配所有界面边界条件的S-矩阵。
,+x\NY2d 本征模解算器计算各图层中均匀介质在k域中的场解。S-矩阵算法通过递归方式匹配边界条件来计算整个图层
系统的响应。这是一种众所周知的无条件数值稳定性方法,因为与传统的传递矩阵不同,它避免了计算步骤中的指数增长
函数。
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;CuL1N#I O#<S\66 文件信息 gx2v(1?S iZ0(a
?P}) Qa xXJzE|)1h! 进一步阅读 fT<3~Z>m - Effects of Mirror Coating on Pulse Characteristics
?.ofs} - Absorption in a CIGS Solar Cell