1. 建模任务 m~D&gGFt 1.1.
模拟条件
QEu=-7@>
光源: EML Emitter (Unit source)
QlHd,w 偶极子方向: Polarization
YTjkPj: Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization)
CCX8>09
波长: 380~780 nm (10 nm step)
S>0nx ^P 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step)
&%_& 8DkG vUnRi=:| 1.2 堆栈
结构 WMBm6?54 !Y:0c#MPH
hAjM1UQ,Y AT\qiznvP 2. 建模过程 fVM`-8ZTq ~(@ E`s&{ 2.1创建新的项目
文件 H-xFiF vc]cNz:mQ
,.o<no Zxb_K 2.2 使用材质或层定义 1D 结构
C( id=F wfP5@ !I
ee/&/Gt 80$fG8 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter)
`W-&0|%Ta R i'L
snt(IJQ 7lo|dg80 3. 结果分析 033T>qY x+@&(NMP5 极坐标图结果
w?,M}=vg o1/lZm{\~n
"z*:'8;E U5]pi+r 等高线图结果
)*5G">) )p zj|/ CxV